Pat
J-GLOBAL ID:200903098030415030

フォトレジストフィルム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998142316
Publication number (International publication number):1999327132
Application date: May. 08, 1998
Publication date: Nov. 26, 1999
Summary:
【要約】【課題】 感度、解像性、密着性、パターンの形成性に非常に優れたフォトレジストフィルムを提供すること。【解決手段】 支持体フィルム/感光性樹脂組成物層/保護フィルムからなるフォトレジストフィルムにおいて、保護フィルムとして、感光性樹脂組成物層と接する面の最大粗さ(Ry)が2.0μm以下であるフィルムを用いたフォトレジストフィルム。
Claim (excerpt):
支持体フィルム/感光性樹脂組成物層/保護フィルムからなるフォトレジストフィルムにおいて、保護フィルムとして、感光性樹脂組成物層と接する面の最大粗さ(Ry)が2.0μm以下であるフィルムを用いたことを特徴とするフォトレジストフィルム。
IPC (3):
G03F 7/004 512 ,  G03F 7/09 501 ,  H05K 3/06
FI (3):
G03F 7/004 512 ,  G03F 7/09 501 ,  H05K 3/06 J
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
Show all

Return to Previous Page