識別票つきのフォトマスク基板及びフォトマスク及びその識別方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003300921
Publication number (International publication number)：2005070490
Application date： Aug. 26, 2003
Publication date： Mar. 17, 2005
Summary：

【課題】フォトマスクの製造管理を行うために、処理過程及びマスクの品質に影響を与えることなく、フォトマスク基板に短時間で直接加工を行うことができ、作製した視認性の高い識別票つきのフォトマスク基板及びフォトマスクと、そこに書きこんだ情報を効率的に識別する方法を提供すること。【解決手段】フォトマスクを製造する工程内で、フォトマスク基板の識別及び管理等に用いる情報パターンからなる識別票を有するフォトマスク基板において、前記識別票が、フォトマスク基板の表面以外の内部領域に、超短パルスレーザの二光束干渉露光を用いた直接加工により、回折格子からなる識別票の書き込みをおこなった識別票つきのフォトマスク基板。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

フォトマスクを製造する工程内で、フォトマスク基板の識別及び管理等に用いる情報パターンからなる識別票を有するフォトマスク基板において、前記識別票が、フォトマスク基板の表面以外の内部領域に直接加工により回折格子の書き込みをおこなったことを特徴とする識別票つきのフォトマスク基板。

IPC (2)：

G03F1/08 , H01L21/027

FI (2)：

G03F1/08 R , H01L21/30 502P

F-Term (1)：

2H095BE04

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

光透過性材料のマーキング方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-090605 Applicant：住友重機械工業株式会社
特開平2-125605号公報
フォトマスク識別装置およびフォトマスク識別方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-268777 Applicant：ソニー株式会社

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