光重合性組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長谷川曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993084817
Publication number (International publication number)：1994301208
Application date： Apr. 12, 1993
Publication date： Oct. 28, 1994
Summary：

【要約】【構成】少なくとも付加重合可能な化合物および光重合開始系を含む光重合性組成物であって、該付加重合可能な化合物が1個以上のエチレン性不飽和二重結合を有しており、かつ、該光重合開始系が特定のケトクマリン骨格を有する増感剤と、該増感剤との共存下光照射時に活性ラジカルを発生し得るチタノセン化合物を含有することを特徴とする。【効果】本発明の光重合性組成物は、可視光線、特に長波長光線において極めて高感度である。

Claim (excerpt)：

少なくとも付加重合可能な化合物および光重合開始系を含む光重合性組成物において、該付加重合可能な化合物がエチレン性不飽和二重結合を少なくとも1個有しており、該光重合開始系が(a)下記一般式〔I〕で表わされる増感剤【化1】(式中、R1 およびR2 はそれぞれ水素原子、アルキル基、アルコキシ基またはアルキルチオ基を表わし、R3 およびR4 はそれぞれアルキル基を表わし、R1とR3 及び/またはR2 とR4 はそれぞれ相互に結合して環構造を形成していてもよく、Xは、シアノ基または【化2】を表わし、環Aは1核または2核の縮合多環芳香族炭化水素残基もしくは1核または2核の芳香族複素環残基を表わし、Yは2価原子または2価基を表わす。)および(b)該増感剤との共存下で光照射時に活性ラジカルを発生しうるチタノセン化合物を含有することを特徴とする光重合性組成物。

IPC (6)：

G03F 7/031 , G03C 1/675 , G03F 7/00 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/027 501 , G03F 7/038

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

特開平3-239703
特開平4-184344
直接描画用フイルムレジスト及びそのフイルムレジストを用いたエツチング加工法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-236942 Applicant：関西ペイント株式会社

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