プラズマ生成用の螺旋共振装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：岡田数彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997343850
Publication number (International publication number)：1999162697
Application date： Nov. 28, 1997
Publication date： Jun. 18, 1999
Summary：

【要約】【課題】プラズマ発生時の共振器における共振点のずれに対応でき、電気的ポテンシャルの一層低いプラズマを生成できる螺旋共振装置を提供する。【解決手段】プラズマ生成用の螺旋共振装置は、減圧可能に構成され且つプラズマ用ガスが供給される容器(11)と、当該容器の外周に巻回された共振コイル(12)と、当該共振コイルの外周に配置された外側シールド(13)とから成る共振器(1)、および、当該共振器に所定周波数の高周波電力を供給する高周波電源(4)を備え、かつ、共振コイル(12)の電気的長さが前記所定周波数における1波長の整数倍に設定される。そして、高周波電源(4)には、プラズマが発生した際の共振器(1)からの反射波電力を検出し、反射波電力が最小となる様に前記所定周波数を増減させる電源制御手段(5)が付設される。

Claim (excerpt)：

減圧可能に構成され且つプラズマ用ガスが供給される容器と、当該容器の外周に巻回された共振コイルと、当該共振コイルの外周に配置された外側シールドとから成る共振器、および、当該共振器に所定周波数の高周波電力を供給する高周波電源を備え、かつ、前記共振コイルの電気的長さが前記所定周波数における1波長の整数倍に設定されたプラズマ生成用の螺旋共振装置において、前記高周波電源には、プラズマが発生した際の前記共振器からの反射波電力を検出し、反射波電力が最小となる様に前記所定周波数を増減させる電源制御手段が付設されていることを特徴とする螺旋共振装置。

IPC (6)：

H05H 1/46 , C23C 16/50 , C23F 4/00 , H01L 21/205 , H01L 21/3065 , H01L 21/31

FI (6)：

H05H 1/46 L , C23C 16/50 , C23F 4/00 A , H01L 21/205 , H01L 21/31 C , H01L 21/302 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

誘導結合プラズマ反応器のRF電力ソースの自動周波数同調装置及び方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-028142 Applicant：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
整合器
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-093163 Applicant：凸版印刷株式会社
特開昭61-016314

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