光触媒膜形成用インキおよび光触媒膜の形成方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：西義之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998076832
Publication number (International publication number)：1999269414
Application date： Mar. 25, 1998
Publication date： Oct. 05, 1999
Summary：

【要約】【課題】光触媒膜を印刷するのに、非常に適した安定したインキであって、形成された膜は光触媒活性が大きく且つ耐摩耗性に優れる光触媒膜形成用インキおよび光触媒膜の形成方法に関する。【解決手段】主成分がTiアルコキシド、Tiアセチルアセトナート、Ti化合物の加水分解および重縮合により形成された酸化チタンのゾルの内の少なくとも1種と、反応の終結した酸化物微粒子から構成されるインキであって、該反応の終結した酸化物微粒子の含有量がインキ主成分の5〜50モル%である光触媒膜形成用インキ。

Claim (excerpt)：

主成分がTiアルコキシド、Tiアセチルアセトナート、Ti化合物の加水分解および重縮合により形成された酸化チタンのゾルの内の少なくとも1種と、反応の終結した酸化物微粒子から構成されるインキであって、該反応の終結した酸化物微粒子の含有量がインキ主成分の5〜50モル%であることを特徴とする光触媒膜形成用インキ。

IPC (7)：

C09D 11/00 , B01J 21/06 , B01J 35/02 , C01G 23/04 , C01G 23/053 , C03C 17/25 , C03C 17/34

FI (7)：

C09D 11/00 , B01J 21/06 M , B01J 35/02 J , C01G 23/04 C , C01G 23/053 , C03C 17/25 A , C03C 17/34 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

酸化チタン薄膜形成用組成物及びそれを用いる光触媒構造体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-085707 Applicant：日本曹達株式会社, 東芝ライテック株式会社
ルチル型酸化チタン(IV)の製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-115298 Applicant：ポーラ化成工業株式会社
二酸化チタン薄膜の形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-248457 Applicant：神東塗料株式会社

Show all

Cited by examiner (4)

酸化チタン薄膜形成用組成物及びそれを用いる光触媒構造体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-085707 Applicant：日本曹達株式会社, 東芝ライテック株式会社
ルチル型酸化チタン(IV)の製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-115298 Applicant：ポーラ化成工業株式会社
親水性コーティング剤及び表面親水性基体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-038899 Applicant：株式会社タオ, 株式会社田中転写

Show all

Return to Previous Page