水素含有ガス製造方法および水素含有ガス製造装置

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： , , , , ,
Agent (4)：日比紀彦 , 岸本瑛之助 , 渡邊彰 , 清末康子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006175328
Publication number (International publication number)：2008001865
Application date： Jun. 26, 2006
Publication date： Jan. 10, 2008
Summary：

【課題】タール分解のみならずタールから水素を回収することができ、結果として、水素濃度を向上させることができる水素ガス製造方法および水素ガス製造装置を提供する。【解決手段】流動層ガス化炉3において、水蒸気と酸素の共存下に該炭化水素を含む材料から水素を含むガスを生じさせるガス化工程と、触媒全重量当たり、5重量%超かつ50重量%未満のNiおよび5重量%超かつ50重量%未満のCaOを含む触媒層を充填する触媒充填層10中を、該ガス化工程により生じたガスが通過するようにさせて、該ガス中に含まれるタールを分解し、かつ、該タールから水素を生じさせる工程とを包含する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

炭化水素を含む材料から水素含有ガスを製造する方法であって、水蒸気と酸素の共存下に該炭化水素を含む材料から水素を含むガスを生じさせるガス化工程と、触媒全重量当たり、5重量%超かつ50重量%未満のNiおよび5重量%超かつ50重量%未満のCaOを含む触媒層中を、該ガス化工程により生じたガスが通過するようにさせて、該ガス中に含まれるタールを分解し、かつ、該タールから水素を生じさせる工程とを包含することを特徴とする方法。

IPC (6)：

C10J 3/00 , C10J 3/02 , B09B 3/00 , C01B 3/02 , C01B 3/38 , B01J 23/78

FI (8)：

C10J3/00 A , C10J3/02 A , B09B3/00 302A , B09B3/00 302C , B09B3/00 302Z , C01B3/02 Z , C01B3/38 , B01J23/78 M

F-Term (38)：

4D004AA02 , 4D004AA07 , 4D004AA12 , 4D004AA46 , 4D004AC04 , 4D004BA03 , 4D004CA27 , 4D004CB04 , 4D004CB27 , 4D004CB31 , 4D004CB42 , 4D004CC01 , 4D004CC02 , 4D004CC03 , 4D004CC09 , 4D004DA03 , 4D004DA06 , 4D004DA20 , 4G140AB03 , 4G140BA02 , 4G140EA01 , 4G140EA03 , 4G140EA06 , 4G140EB01 , 4G140EC02 , 4G140EC05 , 4G169AA03 , 4G169BA01A , 4G169BA01B , 4G169BB04A , 4G169BB04B , 4G169BC09A , 4G169BC09B , 4G169BC68A , 4G169BC68B , 4G169CC17 , 4G169DA05 , 4G169DA06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

ガス化炉
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-257243 Applicant：ユニチカ株式会社

Cited by examiner (6)

可燃ガス改質方法、可燃ガス改質装置及びガス化装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-286393 Applicant：株式会社荏原製作所
ガス化触媒とその製造方法およびガス化処理システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-094954 Applicant：株式会社タクマ
可燃性ガス製造方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-260678 Applicant：バブコック日立株式会社

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