ネガ型フォトレジスト組成物

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：萩野平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998022168
Publication number (International publication number)：1999218918
Application date： Feb. 03, 1998
Publication date： Aug. 10, 1999
Summary：

【要約】【課題】 ArFエキシマレーザー光源に対して好適で、基板密着性に優れるとともに、さらにレジストプロファイルが良好であるネガ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】特定の構造の繰り返し単位および架橋性基を含む重合体を含有するアルカリ可溶性樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物および酸存在下アルカリ可溶性樹脂の現像液溶解性を低下させる化合物を含有するネガ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物および酸存在下アルカリ可溶性樹脂の現像液溶解性を低下させる化合物を含有するネガ型フォトレジスト組成物において、前記アルカリ可溶性樹脂が、下記一般式〔I〕又は〔II〕で表される繰り返し単位および架橋性基を含む重合体を含有することを特徴とするネガ型フォトレジスト組成物。【化1】式中、R1〜R4、R9〜R12;各々独立に、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、ハロゲン原子、水酸基、置換基を有していても良いアルコキシ基、-COOH、-COOR41、-CN、-CO-X-A-R50、R5〜R8、R13〜R20;各々独立に、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いアルコキシ基、R41;置換基を有していても良いアルキル基、又は-Y(Yは下記に示す基である)【化2】R42〜R49;各々独立に、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、X;酸素原子、硫黄原子、-NH-、-NHS02 -、-NHS02 NH-から選ばれる2価の結合基、A;単結合、アルキレン基、置換アルキレン基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、エステル基、アミド基、スルフォンアミド基、ウレタン基、又はウレア基よりなる群から選択される単独あるいは2つ以上の基の組み合わせ、R50;水素原子、アルキル基、環状アルキル基、-COOH、-CN、水酸基、置換基を有していても良いアルコキシ基、-CO-NH-R30、-CO-NH-S02 -R30、-COOR35又は上記-Y、R30;置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、R35;置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、又は上記-Y、x、y、z;1又は2、を表す。

IPC (3)：

G03F 7/038 505 , G03F 7/038 601 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/038 505 , G03F 7/038 601 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-211096 Applicant：ジェイエスアール株式会社
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-115846 Applicant：ジェイエスアール株式会社

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