感放射線性樹脂組成物

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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大島正孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997115846
Publication number (International publication number)：1998307388
Application date： May. 06, 1997
Publication date： Nov. 17, 1998
Summary：

【要約】【課題】絶縁性、平坦性、耐熱性、透明性、耐薬品性などの諸性能に優れるとともに、低誘電性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】 [A]アルカリ可溶性環状ポリオレフィン系樹脂、[B]1,2-キノンジアジド化合物および[C]樹脂[A]と反応して樹脂[A]間に架橋を形成しうる官能基を有する架橋剤を含有する感放射線性樹脂組成物。

Claim (excerpt)：

[A]アルカリ可溶性環状ポリオレフィン系樹脂、[B]1,2-キノンジアジド化合物および[C]樹脂[A]と反応して樹脂[A]間に架橋を形成しうる官能基を有する架橋剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。

IPC (7)：

G03F 7/022 , C08F 2/46 , G03F 7/004 503 , G03F 7/033 , G03F 7/039 501 , H01L 21/027 , H01L 21/768

FI (7)：

G03F 7/022 , C08F 2/46 , G03F 7/004 503 Z , G03F 7/033 , G03F 7/039 501 , H01L 21/30 502 R , H01L 21/90 S

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (16)

接触式帯電装置を用いた画像形成装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-056393 Applicant：日本電気株式会社
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-264693 Applicant：日本合成ゴム株式会社
パタン形成方法及びそれを用いた半導体装置の製造方法並びに感放射線組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-265744 Applicant：株式会社日立製作所, 日立化成工業株式会社

感光性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-268205 Applicant：日本ゼオン株式会社

環状オレフィン樹脂組成物およびその架橋物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-179435 Applicant：日本ゼオン株式会社

感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-065454 Applicant：日本合成ゴム株式会社

感放射線性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-142802 Applicant：日本合成ゴム株式会社

感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-042742 Applicant：日本合成ゴム株式会社

回路基板形成用アルカリ現像型液状フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-066115 Applicant：日本合成ゴム株式会社

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レジスト組成物とレジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-269865 Applicant：富士通株式会社

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