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J-GLOBAL ID:200903098846679877

上皮増殖因子受容体ファミリーのチロシンキナーゼを阻害することができる三環式化合物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高木 千嘉 (外2名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1995519721
Publication number (International publication number):1997508126
Application date: Jan. 23, 1995
Publication date: Aug. 19, 1997
Summary:
【要約】式(I)の上皮増殖因子阻害剤。上記式において、(1)YおよびZは、両方C(炭素)であるかまたは両方Nであるかまたは一方はNでありそして他方はCであり(この場合においては、環構造は線状に縮合した6,6(5または6)三環である)、または(2)YおよびZの一方はC=C、C=NでありそしてYまたはZの他方は2個の芳香族環の間の単なる単一結合であり(この場合においては、環構造は、非線状の6,6(5または6)三環である)または(3)YおよびZの一方はN、OまたはSでありそしてYまたはZの他方は2個の芳香族環の間の単なる単一結合であり(この場合においては、環構造は縮合した6,5(5または6)三環である);A、B、DおよびEは、すべてが炭素であることができ、またはこれらの2個までが窒素であることができそして残りの原子が炭素でなければならず、またはA-Eにおける何れかの2個の隣接した位置が単一の異種原子N、OまたはSであって5員の縮合環を形成することができ(この場合においては、2個の残りの原子の一方は炭素でなければならずそして他方は炭素または窒素であることができる)、Xは、O、S、NHまたはNR9であり、R9は低級アルキル、OH、NH2、低級アルコキシまたは低級モノアルキルアミノであり、m=0〜3であり、そしてArは、フェニル、チエニル、フラニル、ピロリル、ピリジル、ピリミジル、イミダゾリル、ピラジニル、オキサゾリル、チアゾリル、ナフチル、ベンゾチエニル、ベンゾフラニル、インドリル、キノリニル、イソキノリニルおよびキナゾリニルである。
Claim (excerpt):
処理を必要とする哺乳動物を式 の化合物またはその医薬的に許容し得る塩または水和物の有効な阻害量で処理することによって上皮増殖因子受容体チロシンキナーゼを阻害する方法。 上記式において、 (1)YおよびZは、両方C(炭素)であるかまたは両方Nであるかまたは一方はNでありそして他方はCであり(この場合においては、環構造は線状に縮合した6,6,(5または6)三環である)、または(2)YおよびZの一方はC=C、C=NでありそしてYまたはZの他方は2個の芳香族環の間の単なる単一結合であり(この場合においては、環構造は非線状の6,6,(5または6)三環である)または(3)YおよびZの一方はN、OまたはSでありそしてYまたはZの他方は2個の芳香族環の間の単なる単一結合であり(この場合においては、環構造は縮合した6,5,(5または6)三環である); A、B、DおよびEは、すべてが炭素であることができ、またはこれらの2個までが窒素であることができそして残りの原子が炭素でなければならず、またはA-Eにおける何れかの2個の隣接した位置が単一の異種原子N、OまたはSであって5員の縮合環を形成することができ(この場合においては2個の残りの原子の一方は炭素でなければならずそして他方は炭素または窒素であることができる)(AおよびBが一緒になっておりそしてDおよびEが別々になっており、すべてが3個の窒素原子である場合は除く); Xは、O、S、NHまたはNR9(式中、R9は、低級アルキル(炭素原子1〜4個)、OH、NH2、低級アルコキシ(炭素原子1〜4個)または低級モノアルキルアミノ(炭素原子1〜4個)である)であり; R1は、Hまたは低級アルキルであり; nは、0、1または2であり; n=2である場合は、R1は、独立して両方の連結炭素原子上のHまたは低級アルキルであることができそして両方のリンカー上のRおよびS立体中心をも包含し; R2は、低級アルキル(炭素原子1〜4個)、シクロアルキル(炭素原子3〜8個)、低級アルコキシ(炭素原子1〜4個)、シクロアルコキシ(炭素原子3〜8個)、ニトロ、ハロゲン、低級パーフルオロアルキル(炭素原子1〜4個)、ヒドロキシ、低級アシルオキシ(炭素原子1〜4個;-O-C(O)-R)、アミノ、低級モノまたはジアルキルアミノ(炭素原子1〜4個)、低級モノまたはジシクロアルキルアミノ(炭素原子3〜8個)、ヒドロキシメチル、低級アシル(炭素原子1〜4個;-C(O)R)、シアノ、低級チオアルキル(炭素原子1〜4個)、低級スルフィニルアルキル(炭素原子1〜4個)、低級スルホニルアルキル(炭素原子1〜4個)、チオシクロアルキル(炭素原子3〜8個)、スルフィニルシクロアルキル(炭素原子3〜8個)、スルホニルシクロアルキル(炭素原子3〜8個)、メルカプト、低級アルコキシカルボニル(炭素原子1〜4個)、シクロアルコキシカルボニル(炭素原子3〜8個)、低級アルケニル(炭素原子2〜4個)、シクロアルケニル(炭素原子4〜8個)、低級アルキニル(炭素原子2〜4個)でありまたは2個のR2は一緒になって5〜7員の炭素環式環を形成していてもよく; mは0〜3であり、Arは、フェニル、チエニル、フラニル、ピロリル、ピリジル、ピリミジル、イミダゾイル、ピラジニル、オキサゾリル、チアゾリル、ナフチル、ベンゾチエニル、ベンゾフラニル、インドリル、キノリニル、イソキノリニルおよびキナゾリニルであり; R3、R4、R5およびR6は、独立して、存在しないかまたはH、低級アルキル(炭素原子1〜4個)、シクロアルキル(炭素原子3〜8個)、低級アルコキシ(炭素原子1〜4個)、シクロアルコキシ(炭素原子3〜8個)、ヒドロキシ、低級アシルオキシ(炭素原子1〜4個)、アミノ、低級モノまたはジアルキルアミノ(炭素原子1〜4個)、低級モノまたはジシクロアルキルアミノ(炭素原子3〜8個)、低級アルキル(炭素原子1〜4個)、またはシクロアルキル(炭素原子3〜8個)、カルボネート(-OC(O)OR)(Rは1〜4個の炭素原子のアルキルまたは3〜8個の炭素原子のシクロアルキルである); またはウレイドまたはチオウレイドまたはN-またはO-結合したウレタン(これらの何れも、場合によっては、モノ-またはジ-低級アルキル(炭素原子1〜4個)またはシクロアルキル(炭素原子3〜8個)によって置換されていてもよい); 低級チオアルキル(炭素原子1〜4個)、チオシクロアルキル(炭素原子3〜8個)、メルカプト、低級アルケニル(炭素原子2〜4個)、ヒドラジノ、N-および(または)N′-モノ-またはジ-低級アルキルヒドラジノ(炭素原子1〜4個)、低級アシルアミノ(炭素原子1〜4個)、ヒドロキシルアミノ、N-および(または)O-モノ-またはジ-低級アルキルヒドロキシルアミノ(炭素原子1〜4個)であり、または隣接炭素原子上の何れかの2個の置換分は、一緒になってメチレン-、エチレン-またはプロピレンジオキシであってもよく、または一緒になって縮合ピロリジン、テトラヒドロフラニル、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリノまたはチオモルホリノ環を形成していてもよく; R7およびR8は、独立して、適当である場合は存在しないかまたは電子のローンペア、Hまたは低級アルキルであることができ; このような部分を含有するR3〜R8における何れかの置換分上の何れかの低級アルキル基置換分は、場合によっては、1個または2個以上のヒドロキシ、アミノ、低級モノアルキルアミノ、低級ジアルキルアミノ、N-ピロリジル、N-ピペリジニル、N-ピリジニウム、N-モルホリノ、N-チオモルホリノまたはN-ピペラジノ基で置換されていてもよく; もしA〜Eの1個または2個がNである場合は、R3〜R6の何れかがN原子の1個に隣接したC原子上にあるときは、置換分はOHまたはSHであることができず;そして R10は、Hまたは低級アルキル(炭素原子1〜4個)、アミノまたは低級モノ-またはジアルキルアミノ(炭素原子1〜4個)であり; 置換分R1、R2、R3またはR4の何れかがキラル中心を含有する場合、またはR1が連結原子上にキラル中心を生ずる場合においては、分離された状態およびラセミ体および(または)ジアステレオ異性体混合物としてのすべての立体異性体を包含する。
IPC (5):
A61K 31/505 AED ,  A61K 31/505 ABE ,  A61K 31/505 ACJ ,  A61K 31/505 ACU ,  A61K 31/505 ADU
FI (5):
A61K 31/505 AED ,  A61K 31/505 ABE ,  A61K 31/505 ACJ ,  A61K 31/505 ACU ,  A61K 31/505 ADU
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1) Cited by examiner (1)
Article cited by the Patent:
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