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J-GLOBAL ID：200903099281232012

ペリクル剥離方法及びペリクル剥離装置

Inventor： 田中 眞一郎 ,  和田 茂 ,  楠瀬 治彦
Applicant, Patent owner： 菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社 ,  三菱電機株式会社
Agent (1)： 高田 守 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994293017
Publication number (International publication number)：1996152709
Application date： Nov. 28, 1994
Publication date： Jun. 11, 1996
Summary：

【要約】【目的】 本発明は、フォトマスクを傷付けずにペリクルを容易に剥離させ、かつ人体への悪影響が生じるのを防止するとともに、粘着剤がフォトマスクに付着するのを防止することを目的とするものである。【構成】 ペリクル5のフォトマスク1への接着部を50°C〜100°Cの温水に浸漬し、接着部に設けられた粘着剤の粘着力を低下させた後、ペリクル5をフォトマスク1から引き剥がすようにした。

Claim (excerpt)：

ペリクルのフォトマスクへの接着部を50°C〜100°Cの温水に浸漬し、上記接着部に設けられた粘着剤の粘着力を低下させた後、上記ペリクルを上記フォトマスクから剥離させることを特徴とするペリクル剥離方法。

IPC (2)：

G03F 1/14 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平3-119356
  
• ペリクル膜の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-352045   Applicant：信越化学工業株式会社
• ペリクル剥離装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-352367   Applicant：株式会社ニコン
• 特開平2-304439