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J-GLOBAL ID：200903099286777157

新規なスルホニルジアゾメタン化合物

Inventor： 佐藤 和史 ,  新田 和行 ,  島巻 利治 ,  庫本 伸哉
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社 ,  ダイトーケミックス株式会社
Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997198953
Publication number (International publication number)：1999035551
Application date： Jul. 24, 1997
Publication date： Feb. 09, 1999
Summary：

【要約】【課題】 化学増幅型レジストの酸発生剤として用いた場合、露光部と未露光部のコントラストに優れ、十分な感度を示す新規なスルホニルジアゾメタン化合物を提供する。【解決手段】 一般式【化1】(R1は低級アルキレン基、R2は第三アルキル基)で表わされるスルホニルジアゾメタン化合物とする。

Claim (excerpt)：

一般式【化1】(式中のR1は低級アルキレン基、R2は第三アルキル基である)で表わされるスルホニルジアゾメタン化合物。

IPC (2)：

C07C381/14 ,  G03F 7/004 503

FI (2)：

C07C381/14 ,  G03F 7/004 503 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-286168   Applicant：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-094443   Applicant：東京応化工業株式会社
• 特開平2-106751
  
• 特開平2-118655
  
• 感放射線性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-189479   Applicant：三菱化学株式会社
• 化学増幅型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-198979   Applicant：東京応化工業株式会社