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J-GLOBAL ID：200903099722222611

洗浄装置および方法

Inventor：
佐原 輝隆

About 佐原 輝隆


Applicant, Patent owner：
日立プラント建設株式会社

About 日立プラント建設株式会社


Agent (2)： 村上 友一 ,  大久保 操
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003199152
Publication number (International publication number)：2005039002
Application date： Jul. 18, 2003
Publication date： Feb. 10, 2005
Summary：
【課題】微細な気泡状の水素を混合した水素溶解超純水を連続して洗浄槽に供給して超音波を照射することにより、洗浄槽に浸漬した被洗浄物を洗浄する洗浄装置を提供する。【解決手段】洗浄装置は、超純水を供給する供給管18および水素を供給する第一水素供給管20が接続したガス溶解槽12と、超音波を槽内に照射する超音波発生装置40を備えた洗浄槽16と、溶存水素計30のセンサ32を介して前記ガス溶解槽12と前記洗浄槽16の下部とを連通するとともに、前記洗浄槽16の直前で水素含有超純水へ気泡状の水素を供給する第二水素供給管34が接続した連通管26とを有する構成とした。この第二水素供給管は、洗浄槽16内へ直接に気泡状の水素を供給する構成にすることもできる。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
水素を超純水に溶解させた水素溶解超純水が供給される洗浄槽に超音波発生装置を備えた洗浄装置において、前記洗浄槽の直前または槽内に前記水素溶解超純水へ混合する水素気泡の供給手段を設けたことを特徴とする洗浄装置。
IPC (4)：
H01L21/304 ,  B08B3/04 ,  B08B3/08 ,  C23G5/00
FI (7)：
H01L21/304 647Z ,  H01L21/304 642E ,  H01L21/304 648G ,  H01L21/304 648L ,  B08B3/04 Z ,  B08B3/08 Z ,  C23G5/00
F-Term (19)：
3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201BB02 ,  3B201BB83 ,  3B201BB93 ,  3B201BB94 ,  3B201BB96 ,  3B201CD41 ,  4K053PA10 ,  4K053PA13 ,  4K053PA17 ,  4K053QA04 ,  4K053RA02 ,  4K053RA11 ,  4K053SA06 ,  4K053SA18 ,  4K053XA50 ,  4K053YA03
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)
  • 洗浄方法および洗浄装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-156910   Applicant：株式会社東芝
  • 洗浄方法及び洗浄装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-232760   Applicant：野村マイクロ・サイエンス株式会社

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