半導体装置およびその作製方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001129202
Publication number (International publication number)：2002014337
Application date： Apr. 26, 2001
Publication date： Jan. 18, 2002
Summary：

【要約】【課題】本発明は、アクティブマトリクス基板の作製工程を増やすことなく、反射電極の鏡面反射を防ぐ凸凹を形成する手段を提供することを課題とする。【解決手段】本発明は、反射型の液晶表示装置に用いるアクティブマトリクス基板の作製方法において、画素電極(反射電極)の表面に凹凸を持たせて光散乱性を図るための凸部701、702の形成をTFTの形成と同じフォトマスクでパターニングを行い、画素電極169の表面に凸凹を形成する。

Claim (excerpt)：

絶縁表面上に半導体層と、前記半導体層上の絶縁膜と、前記絶縁膜上のゲート電極とを含むTFTと、前記絶縁表面上に複数の凸部と、前記TFT及び前記凸部を覆い、且つ、凸凹の表面を有する層間絶縁膜と、前記層間絶縁膜上に、前記TFTと電気的に接続され、且つ、凸凹の表面を有する画素電極と、を有することを特徴とする半導体装置。

IPC (5)：

G02F 1/1335 520 , G02F 1/1368 , H01L 21/3205 , H01L 21/336 , H01L 29/786

FI (4)：

G02F 1/1335 520 , G02F 1/1368 , H01L 29/78 612 D , H01L 21/88 A

F-Term (153)：

2H091FA02Y , 2H091FA16Y , 2H091FA34Y , 2H091FC25 , 2H091GA02 , 2H091GA07 , 2H091GA13 , 2H091LA12 , 2H091LA18 , 2H091LA19 , 2H092JA25 , 2H092JB05 , 2H092JB07 , 2H092KA05 , 2H092KA18 , 2H092KB25 , 2H092MA05 , 2H092MA27 , 2H092MA30 , 2H092NA01 , 2H092NA27 , 5F033GG04 , 5F033HH08 , 5F033HH10 , 5F033HH14 , 5F033HH18 , 5F033JJ01 , 5F033JJ08 , 5F033JJ10 , 5F033JJ14 , 5F033JJ18 , 5F033KK04 , 5F033KK05 , 5F033KK08 , 5F033KK09 , 5F033KK11 , 5F033KK12 , 5F033KK18 , 5F033KK19 , 5F033KK20 , 5F033KK21 , 5F033KK23 , 5F033KK32 , 5F033LL04 , 5F033MM05 , 5F033MM13 , 5F033MM19 , 5F033MM26 , 5F033NN06 , 5F033NN07 , 5F033PP06 , 5F033PP15 , 5F033QQ00 , 5F033QQ03 , 5F033QQ08 , 5F033QQ09 , 5F033QQ10 , 5F033QQ12 , 5F033QQ16 , 5F033QQ34 , 5F033QQ37 , 5F033QQ58 , 5F033QQ65 , 5F033QQ71 , 5F033QQ73 , 5F033QQ82 , 5F033QQ83 , 5F033QQ98 , 5F033RR04 , 5F033RR06 , 5F033RR08 , 5F033RR21 , 5F033SS15 , 5F033TT02 , 5F033TT04 , 5F033VV15 , 5F033XX32 , 5F033XX33 , 5F033XX34 , 5F110AA30 , 5F110BB02 , 5F110BB04 , 5F110CC02 , 5F110CC07 , 5F110DD01 , 5F110DD02 , 5F110DD03 , 5F110DD05 , 5F110DD13 , 5F110DD14 , 5F110DD15 , 5F110DD17 , 5F110EE01 , 5F110EE02 , 5F110EE03 , 5F110EE04 , 5F110EE09 , 5F110EE14 , 5F110EE23 , 5F110EE44 , 5F110EE45 , 5F110FF02 , 5F110FF04 , 5F110FF09 , 5F110FF28 , 5F110FF30 , 5F110FF36 , 5F110GG01 , 5F110GG02 , 5F110GG13 , 5F110GG14 , 5F110GG15 , 5F110GG25 , 5F110GG32 , 5F110GG43 , 5F110GG45 , 5F110GG47 , 5F110HJ01 , 5F110HJ04 , 5F110HJ12 , 5F110HJ13 , 5F110HJ23 , 5F110HK08 , 5F110HK15 , 5F110HK16 , 5F110HK21 , 5F110HK33 , 5F110HK35 , 5F110HL04 , 5F110HL06 , 5F110HL11 , 5F110HM15 , 5F110NN03 , 5F110NN04 , 5F110NN22 , 5F110NN23 , 5F110NN24 , 5F110NN27 , 5F110NN34 , 5F110NN35 , 5F110NN44 , 5F110NN72 , 5F110NN73 , 5F110PP03 , 5F110PP10 , 5F110PP29 , 5F110PP34 , 5F110PP35 , 5F110QQ09 , 5F110QQ23 , 5F110QQ24 , 5F110QQ25 , 5F110QQ28

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (19)

反射型液晶表示装置及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-059475 Applicant：日本電気株式会社
液晶表示装置およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-045494 Applicant：シャープ株式会社
反射型液晶表示装置及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-208817 Applicant：日本電気株式会社

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