Pat

J-GLOBAL ID：200903099915159771

荷電粒子線装置

Inventor： 阿部 和夫 ,  斎藤 晋 ,  渡邉 真也 ,  鈴木 等 ,  東條 徹 ,  平野 亮一
Applicant, Patent owner： 株式会社トプコン ,  株式会社東芝
Agent (1)： 中村 稔 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997068672
Publication number (International publication number)：1998268098
Application date： Mar. 21, 1997
Publication date： Oct. 09, 1998
Summary：

【要約】【課題】 荷電粒子線を加工対象物の表面に照射すると、荷電粒子線がドリフトして、加工対象物の表面の加工や測定を正確に行うことが困難となる。【解決手段】 荷電粒子線装置800において、加工対象物805がチャンバー810の内部に配置される。2次元パターン822が、加工対象物805の表面の一部分に設けられている。加工対象物805の位置を測定するための位置測定装置は照明側光学鏡筒802及び受光側光学鏡筒830を備えている。照明側光学鏡筒802の照射した光は加工対象物805の2次元パターン822により回折されて、受光側光学鏡筒830に入射される。光源が発した光を2次元パターン822に照射するための窓部807が設けられる。窓部807は光学ガラスにより形成され、透過性を有する導電性のコーティングが形成されている。

Claim (excerpt)：

荷電粒子線を用いてチャンバー部内に配置された対象物の加工や測定を行う荷電粒子線装置において、対象物の位置を測定するために、該対象物上に設けられたパターンに向けて照射する測定光束となるコヒーレント光を発する光源部と、チャンバーの一部を形成する照射側窓部を介して、この測定光束を所定の入射角で対象物上のパターンに照射する照射光学系と、チャンバーの一部を形成する受光側窓部を介して、対象物上のパターンからの反射光を受光する受光光学系と、受光光学系からの反射光を受光する受光部と、受光部からの信号に基づき対象物の位置を求める信号処理部とを有し、前記照射側窓部及び前記受光側窓部の少なくとも一方は、その内面が導電性の材質により形成されていることを特徴とする荷電粒子線装置。

IPC (4)：

G21K 5/04 ,  G01B 11/00 ,  H01J 37/20 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G21K 5/04 E ,  G01B 11/00 G ,  H01J 37/20 D ,  H01L 21/30 525 E

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 電子ビ-ム描画装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-082267   Applicant：株式会社日立製作所
• 露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-327919   Applicant：株式会社ニコン
• 位置合せ装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-189181   Applicant：株式会社東芝