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J-GLOBAL ID：201002234620991906   Reference number：10A1102550

ニッケル内包フラーレン合成に対するプラズマ照射の効果

Author (4)： UMAKOSHI TATSUYA (東北大 大学院) ,  KANEKO TOSHIRO (東北大 大学院) ,  ISHIDA HIROYASU (東北大 大学院) ,  HATAKEYAMA RIKIZO (東北大 大学院)
Material： 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Meeting. Japan Society of Applied Physics (CD-ROM))
Volume： 71st  Page： ROMBUNNO.14A-ZK-1  Publication year： Aug. 30, 2010 
JST Material Number： Y0055B  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *fullerene C60 ,  clathrate compound ,  nickel compound ,  *plasma exposure ,  Computer Simulation ,  electron cyclotron resonance plasma ,  mass spectrum ,  substrate (plate) ,  ion irradiation ,  *sputtered deposition ,  encapsulated metallofullerene ,  Molecular Dynamics Simulation ,  voltage dependency ,  computer application ,  utilization ,  plasma

JST classification (2)： Crystal growth of other inorganic compounds  (BK13060T) ,  Molecular compounds  (CE02000C)

Terms in the title (3)： ニッケル ,  内包フラーレン ,  プラズマ照射