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J-GLOBAL ID：201002244464697640   Reference number：10A0685188

Step and Flash Imprint Lithography for Semiconductor High Volume Manufacturing?

半導体大量生産用のステップアンドフラッシュインプリントリソグラフィー

Author (2)： MALLOY M. (SEMATECH, NY) ,  LITT L. C. (SEMATECH, NY)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 7637  Page： 763706.1-763706.11  Publication year： 2010 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： semiconductor integrated circuit ,  *mass production ,  *lithography ,  compression forming ,  *circuit pattern generation ,  throughput ,  length ,  surface roughness ,  mold and pattern
Semi thesaurus term： *step & flash imprint lithography ,  critical dimension ,  line width roughness ,  template

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (2)： 大量生産 ,  ステップアンドフラッシュインプリントリソグラフィー