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J-GLOBAL ID：201002246658314710   Reference number：10A0366304

Advanced Micro-Polycrystalline Silicon Films Formed by Blue-Multi-Laser-Diode Annealing

青色マルチレーザダイオードアニーリングにより形成した先端的微小多結晶珪素膜

Author (8)： NOGUCHI Takashi (Univ. Ryukyus, Okinawa, JPN) ,  CHEN Yi (Univ. Ryukyus, Okinawa, JPN) ,  MIYAHIRA Tomoyuki (Univ. Ryukyus, Okinawa, JPN) ,  DE DIEU MUGIRANEZA Jean (Univ. Ryukyus, Okinawa, JPN) ,  OGINO Yoshiaki (Hitachi Computer Peripherals Co., Ltd., Kanagawa, JPN) ,  IIDA Yasuhiro (Hitachi Computer Peripherals Co., Ltd., Kanagawa, JPN) ,  SAHOTA Eiji (Hitachi Computer Peripherals Co., Ltd., Kanagawa, JPN) ,  TERAO Motoyasu (Hitachi Computer Peripherals Co., Ltd., Kanagawa, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 49  Issue： 3,Issue 2  Page： 03CA10.1-03CA10.3  Publication year： Mar. 25, 2010 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： semiconductor laser ,  *laser annealing ,  amorphous silicon ,  thin film transistor ,  crystal grain ,  crystallization ,  laser output ,  electron microscopy ,  *polysilicon ,  *semiconductor thin film
Semi thesaurus term： *polycrystalline silicon ,  amorphous silicon

JST classification (1)： Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I)

Reference (10)：

• T. Noguchi, D. Y. Kim, J. Y. Kwon, K. B. Park, J. S. Jung, W. X. Xianyu, H. X. Yin, and H. S. Cho: Mater. Res. Soc. Symp. Proc.814(2004)11.4.
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• K. Tatsuki, T. Arai, N. Umezu, K. Shirai, Y. Inagaki, and T. Urabe: Dig. Tech. Pap. AM-FPD’08, 2008, S-11, p. 109.

Terms in the title (3)： 青色 ,  微小 ,  多結晶珪素膜