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J-GLOBAL ID：201002284187788847   Reference number：10A1100198

Utilization of Water Vapor for Sputter Deposition of Thin Films

スパッタリング成膜への水の利用

Author (1)： ABE YOSHIO (北見工業大学マテリアル工学科)
Material： Journal of the Vacuum Society of Japan  (真空)
Volume： 53  Issue： 9  Page： 515-520 (J-STAGE)  Publication year： 2010 
JST Material Number： G0194A  ISSN： 1882-2398  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： sputtering ,  *sputtered deposition ,  *water vapor ,  *additive effect ,  *metallic thin film ,  *oxide ,  surface structure ,  crystal orientation ,  machining speed ,  hydrate ,  proton conduction ,  ionic conduction ,  surface morphology ,  structure
Semi thesaurus term： crystal orientation ,  etch rate

JST classification (1)： Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I)

Reference (49)：

• 1) A. Kinbara: Supattaringu Genshou (Sputtering Phenomena) (Univ. Tokyo Press, Tokyo, 1984) p. 137 and p. 167 [in Japanese].
• 2) A. Morimoto: in Hakumaku Handbook (Thin Film Handbook), ed. The 131st Committee on Thin Films, Japan Society for the Promotion of Science (Ohmsha, Tokyo, 2008) 2nd ed. Chap. 1, p.44 [in Japanese].
• 3) E. Kusano, S. Baba and A. Kinbara,: J. Vac. Sci. Technol. A, 10 (1992) 1696.
• 4) H. Kobayashi: Supatta Hakumaku (Sputtering of Thin Films), (Nikkan Kogyo Shinbun, Tokyo, 1993) p. 81 [in Japanese].
• 5) T. Asamaki: Hakumaku Sakusei no Kiso (Fundamentals of Thin Films Formation) (Nikkan Kogyo Shinbun, Tokyo, 2005) 4th ed., p. 219 [in Japanese].

Terms in the title (2)： スパッタリング成膜 ,  水