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J-GLOBAL ID：201002284588031196   Reference number：10A0193414

Stability of Ti-Zr-N coatings under Xe-ion irradiation

Xe-イオン照射下でのTi-Zr-Nコーティングの安定性

Author (9)： UGLOV V.v. (Belarussian State Univ., Nezaleznastia av. 4, 220030 Minsk, Belarus) ,  RUSALSKI D.p. (Belarussian State Univ., Nezaleznastia av. 4, 220030 Minsk, Belarus) ,  ZLOTSKI S.v. (Belarussian State Univ., Nezaleznastia av. 4, 220030 Minsk, Belarus) ,  SEVRIUK A.v. (Belarussian State Univ., Nezaleznastia av. 4, 220030 Minsk, Belarus) ,  ABADIAS G. (Lab. PHYMAT, Univ. de Poitiers, 86962 Chasseneuil Futuroscope cedex, FRA) ,  KISLITSIN S.b. (Inst. of Nuclear Physics of National Nuclear Center of Republic of Kazakhstan, Ibragimov str. 1, 050032 Almaty ...) ,  KADYRZHANOV K.k. (Inst. of Nuclear Physics of National Nuclear Center of Republic of Kazakhstan, Ibragimov str. 1, 050032 Almaty ...) ,  GORLACHEV I.d. (Inst. of Nuclear Physics of National Nuclear Center of Republic of Kazakhstan, Ibragimov str. 1, 050032 Almaty ...) ,  DUB S.n. (Inst. of Superhard Materials, Avtozavodskaya str. 2, 07074 Kiev, UKR)
Material： Surface & Coatings Technology  (Surf Coat Technol)
Volume： 204  Issue： 12-13  Page： 2095-2098  Publication year： Mar. 15, 2010 
JST Material Number： D0205C  ISSN： 0257-8972  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *nitride ,  *titanium compound ,  *zirconium compound ,  *evaporated film ,  *sputtered deposition ,  magnetron sputtering ,  wafer ,  silicon ,  *ion irradiation ,  xenon ,  *stability ,  phase constitution ,  microhardness ,  strain ,  variation ,  stress(mechanics) ,  morphology ,  ceramic coating
Semi thesaurus term： silicon substrate ,  stress modification ,  elastic strain ,  *窒化チタンジルコニウム

JST classification (2)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A) ,  Ceramic coating to nonmetallic materials  (YC02040K)

Terms in the title (6)： Xe ,  イオン照射 ,  Ti ,  Zr ,  コーティング ,  安定性