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J-GLOBAL ID：201002291806623994   Reference number：10A0685196

Self-Assembling Materials for Lithographic Patterning: Overview, Status and Moving Forward

リソグラフィーパターン形成用の自己集合材料: 概観,現状,将来展望

Author (4)： HINSBERG William (IBM Almaden Res. Center, CA) ,  CHENG Joy (IBM Almaden Res. Center, CA) ,  KIM Ho-Cheol (IBM Almaden Res. Center, CA) ,  SANDERS Daniel P. (IBM Almaden Res. Center, CA)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 7637  Page： 76370G.1-76370G.11  Publication year： 2010 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *self assembly ,  microelectronics ,  *circuit pattern generation ,  *lithography ,  manufacturing ,  semiconductor process ,  block copolymer ,  self organization system ,  monomolecular layer ,  control
Semi thesaurus term： semiconductor circuit fabrication ,  self-assembled monolayer ,  alignment control

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (5)： リソグラフィー ,  パターン形成 ,  自己集合 ,  現状 ,  将来展望