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J-GLOBAL ID：201003001450653880

細胞パターン回収ツール

Inventor： 岡 野 光 夫 ,  大 和 雅 之 ,  清 水 達 也 ,  黒 田 正 敏
Applicant, Patent owner： 学校法人東京女子医科大学 ,  大日本印刷株式会社
Agent (5)： 吉武 賢次 ,  中村 行孝 ,  紺野 昭男 ,  横田 修孝 ,  伊藤 武泰
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008271850
Publication number (International publication number)：2010098979
Application date： Oct. 22, 2008
Publication date： May. 06, 2010
Summary：

【課題】細胞パターンを安定的かつ確実に維持したまま、細胞にとって低侵襲な条件で、細胞パターンを迅速に回収できる、細胞パターン回収ツールの提供。【解決手段】本発明による細胞パターン回収ツールは、表面が易接着処理された基材層と、前記基材層上に形成された、表面がシラン処理された温度応答性ポリマー層と、前記温度応答性ポリマー層上に形成された、細胞接着阻害材料層とから構成されてなる。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

表面が易接着処理された基材層と、 前記基材層上に形成された、表面がシラン処理された温度応答性ポリマー層と、 前記温度応答性ポリマー層上に形成された、細胞接着阻害材料層と から構成されてなる、細胞パターン回収ツール。

IPC (3)：

C12M 3/00 ,  C12N 11/02 ,  C12N 5/07

FI (3)：

C12M3/00 A ,  C12N11/02 ,  C12N5/00 E

F-Term (20)：

4B029AA08 ,  4B029AA21 ,  4B029BB11 ,  4B029CC02 ,  4B029CC11 ,  4B029GA01 ,  4B029GB09 ,  4B029GB10 ,  4B033NA02 ,  4B033NA16 ,  4B033NB33 ,  4B033NB63 ,  4B033NC07 ,  4B033ND12 ,  4B065AA90X ,  4B065AC20 ,  4B065BC42 ,  4B065BD14 ,  4B065BD50 ,  4B065CA44

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 細胞培養支持体とその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-066700   Applicant：大日本印刷株式会社
• 細胞培養用基板
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-148552   Applicant：大日本印刷株式会社
• 人工組織体およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-163512   Applicant：森田育男, 大日本印刷株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 細胞シート工学 -パターン化細胞シートの作製と利用-