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J-GLOBAL ID：200903067374369124

細胞培養支持体とその製造方法

Inventor：
渡辺 正直

About 渡辺 正直

, 
萩原 健一

About 萩原 健一


Applicant, Patent owner：
大日本印刷株式会社

About 大日本印刷株式会社


Agent (4)： 平木 祐輔 ,  石井 貞次 ,  藤田 節 ,  遠藤 真治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007066700
Publication number (International publication number)：2008220320
Application date： Mar. 15, 2007
Publication date： Sep. 25, 2008
Summary：
【課題】本発明は、細胞シートの剥離が容易で、かつ均一な細胞シートを形成することができる細胞培養支持体を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、温度応答性ポリマーが共有結合により表面に固定化された細胞培養支持体の製造方法であって、放射線照射により重合して前記ポリマーを形成し得るモノマーと、前記モノマーが重合してなるプレポリマーと、有機溶媒とを含む組成物を、前記温度応答性ポリマーと放射線照射により共有結合し得る材料を含む表面を備えた基材に塗布して、前記基材の表面上に塗膜を形成する塗布工程と、前記塗膜に放射線を照射して、重合反応及び基材表面と前記温度応答性ポリマーとの結合反応を進行させる放射線照射工程と、前記塗膜を乾燥させる乾燥工程とを含む前記方法に関する。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
温度応答性ポリマー、pH応答性ポリマー及びイオン応答性ポリマーからなる群から選択される少なくとも1種のポリマーが共有結合により表面に固定化された細胞培養支持体の製造方法であって、放射線照射により重合して前記ポリマーを形成し得るモノマーと、前記モノマーが重合してなるオリゴマー又はプレポリマーと、有機溶媒とを含む組成物を、前記ポリマーと放射線照射により共有結合し得る材料を含む表面を備えた基材に塗布して、前記基材の表面上に塗膜を形成する塗布工程と、前記塗膜に放射線を照射して、重合反応及び基材表面と前記ポリマーとの結合反応を進行させる放射線照射工程と、前記塗膜を乾燥させる乾燥工程とを含む前記方法。
IPC (2)：
C12M 3/00 ,  C12N 5/06
FI (2)：
C12M3/00 A ,  C12N5/00 E
F-Term (12)：
4B029AA21 ,  4B029BB11 ,  4B029CC02 ,  4B029CC10 ,  4B065AA88X ,  4B065BB01 ,  4B065BC41 ,  4B065BC42 ,  4B065BC46 ,  4B065CA43 ,  4B065CA44 ,  4B065CA46
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (14)
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Cited by examiner (8)
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Article cited by the Patent：
Cited by examiner (3)
  • 平成15年度 課題対応技術革新促進事業-課題対応新技術研究調査事業-成果報告書, 2004, p.18-21
  • 平成15年度 課題対応技術革新促進事業-課題対応新技術研究調査事業-成果報告書, 2004, p.18-21
  • 平成15年度 課題対応技術革新促進事業-課題対応新技術研究調査事業-成果報告書, 2004, p.18-21

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