Pat
J-GLOBAL ID:200903068412619543
細胞培養用基板
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
平木 祐輔
, 石井 貞次
, 藤田 節
, 遠藤 真治
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006148552
Publication number (International publication number):2007312736
Application date: May. 29, 2006
Publication date: Dec. 06, 2007
Summary:
【課題】本発明は細胞シート、細胞パターン等を所望の対象材料に高速で転写することを可能にする手段を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、基材と、基材表面に形成された細胞接着性領域とを備える細胞培養用基板であって、細胞接着性領域が、炭素酸素結合を有する有機化合物を含む細胞接着阻害性の親水性膜に酸化処理および/または分解処理を施して細胞接着性とした膜で形成されていることを特徴とする細胞培養用基板を提供する。【選択図】なし
Claim (excerpt):
基材と、基材表面に形成された細胞接着性領域とを備える細胞培養用基板であって、
細胞接着性領域が、炭素酸素結合を有する有機化合物を含む細胞接着阻害性の親水性膜に酸化処理および/または分解処理を施して細胞接着性とした膜で形成されていることを特徴とする細胞培養用基板。
IPC (3):
C12M 1/00
, C12N 5/06
, A61L 27/00
FI (5):
C12M1/00 A
, C12N5/00 E
, A61L27/00 C
, A61L27/00 F
, A61L27/00 V
F-Term (22):
4B029AA08
, 4B029AA21
, 4B029BB11
, 4B029CC02
, 4B029CC11
, 4B029GB09
, 4B065AA87
, 4B065AC20
, 4B065BC41
, 4B065BD40
, 4B065CA44
, 4C081AA12
, 4C081AA14
, 4C081AB04
, 4C081AB05
, 4C081AB19
, 4C081AB31
, 4C081AB36
, 4C081BA12
, 4C081CD34
, 4C081DA01
, 4C081DA02
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (12)
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特開平2-245181号公報
-
特開平3-7576号公報
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細胞培養用基板とその作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-357910
Applicant:日本電気株式会社
-
米国特許第5,512,131号明細書
-
米国特許第5,900,160号明細書
-
物品の面をスタンピングするための装置および方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-048498
Applicant:モトローラ・インコーポレイテッド
-
表面にパターニングを行う装置および方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-063756
Applicant:モトローラ・インコーポレイテッド
-
人工組織体およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-163512
Applicant:森田育男, 大日本印刷株式会社
-
人工細胞組織の作成方法、及びそのための基材
Gazette classification:再公表公報
Application number:JP2004015656
Applicant:森田育男, 中村真人, 大日本印刷株式会社
-
区画培養基板及びそれを用いたDNAチップ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-195425
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
細胞培養基板の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-042663
Applicant:大日本印刷株式会社
-
マイクロパターン化細胞基質およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-205710
Applicant:独立行政法人理化学研究所, 独立行政法人物質・材料研究機構
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Cited by examiner (4)
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人工組織体およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-163512
Applicant:森田育男, 大日本印刷株式会社
-
区画培養基板及びそれを用いたDNAチップ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-195425
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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細胞培養基板の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-042663
Applicant:大日本印刷株式会社
-
マイクロパターン化細胞基質およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-205710
Applicant:独立行政法人理化学研究所, 独立行政法人物質・材料研究機構
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Article cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (2)
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