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J-GLOBAL ID：201003007696081833

光照射ヘッド、露光デバイス、画像形成装置、液滴硬化装置、および液滴硬化方法

Inventor： 田口 明 ,  米田 竜司
Applicant, Patent owner： 京セラ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009250695
Publication number (International publication number)：2010274256
Application date： Oct. 30, 2009
Publication date： Dec. 09, 2010
Summary：

【課題】 対象体に対して、比較的高い光量の光を、比較的小さい光量分布で照射する光照射ヘッド、露光デバイス、画像形成装置、液滴硬化装置、および液滴硬化方法を提供する。 【解決手段】 この光照射ヘッド10は、第1基板20と、第1基板20の上に配置されている発光素子12と、を備えている。第1基板20は、冷却媒体が通過する冷却流路が内部に設けられている。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

基体と、該基体の第1主面の上に配置されている発光素子と、を備えており、 前記基体は、冷却媒体が通過する流路が内部に設けられている、光照射ヘッド。

IPC (3)：

B01J 19/12 ,  B41J 2/01 ,  H01L 33/64

FI (3)：

B01J19/12 C ,  B41J3/04 101Z ,  H01L33/00 450

F-Term (31)：

2C056EA13 ,  2C056HA44 ,  2C056HA60 ,  2H097AA03 ,  2H097CA02 ,  2H097CA03 ,  2H097CA12 ,  2H097FA10 ,  2H097LA01 ,  4G075AA33 ,  4G075AA45 ,  4G075AA70 ,  4G075BD01 ,  4G075CA03 ,  4G075CA32 ,  4G075CA33 ,  4G075DA02 ,  4G075EA06 ,  4G075EB32 ,  4G075FA12 ,  4G075FC11 ,  5F041AA33 ,  5F041DA13 ,  5F041DA19 ,  5F041DA20 ,  5F041DA35 ,  5F041DA36 ,  5F041DA82 ,  5F041DB08 ,  5F041FF13 ,  5F041FF16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 紫外線照射装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-326915   Applicant：セイコーエプソン株式会社
• 発光ダイオードを用いた光源
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-168217   Applicant：パナソニック電工株式会社
• マイクロ反応装置、その製造方法、集積化マイクロ反応モジュール、および有機ヒ素汚染水の浄化方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-029780   Applicant：国立大学法人東京工業大学, 三井造船株式会社
• 光源装置及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-114502   Applicant：松下電工株式会社
• インクジェット式記録装置及びインクジェット記録方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-344154   Applicant：松下電器産業株式会社