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J-GLOBAL ID：201003013683808459

透過により混合気体を処理するための装置およびシステム

Inventor：
ジョゼ・グレゴリオ・サンシェ

About ジョゼ・グレゴリオ・サンシェ

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アレハンドロ・カルロス・ムルゲス・コダーン

About アレハンドロ・カルロス・ムルゲス・コダーン


Applicant, Patent owner：
アレバ・エヌペ

About アレバ・エヌペ

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サントル・ナショナル・ドゥ・ラ・レシェルシュ・サイエンティフィーク-セ・エン・エール・エス-

About サントル・ナショナル・ドゥ・ラ・レシェルシュ・サイエンティフィーク-セ・エン・エール・エス-


Agent (4)： 村山 靖彦 ,  志賀 正武 ,  渡邊 隆 ,  実広 信哉
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2010511698
Publication number (International publication number)：2010529905
Application date： Jun. 09, 2008
Publication date： Sep. 02, 2010
Summary：
本発明は、透過により混合気体を処理するための装置およびシステムに関する。本発明の装置は、m×n個の分離モジュールPij(mおよびnは2以上の自然数(natural integer)、iは1からmまでの自然数、jは1からnまでの自然数である)を有する。各分離モジュールPijは、透過物入口Epij(分離モジュールP11の透過物入口Ep11が上記装置に混合気体を供給するためのF入口に相当する)、透過物出口Spij、残留物出口Srijを有する。また、透過物出口Spijは分離モジュールPi+1jの透過物入口Epi+1jに連結され、残留物出口Srijは分離モジュールPij+1の透過物入口Epij+1に連結される。この装置は中間での再利用を一切行わない。
Claim (excerpt)：
m×n個の分離モジュールPij(mおよびnは2以上の自然数、iは1からmまでの自然数、ならびにjは1からnまでの自然数である)を有する、透過により混合気体を処理するための1つの装置(I)であって、各分離モジュールPijが、 透過物入口Epij(分離モジュールP11の透過物入口Ep11が前記装置(I)の混合気体供給物入口に相当する)、 透過物出口Spij、 残留物出口Srij、 を有する、装置において、 前記透過物出口Spijが分離モジュールPi+1jの透過物入口Epi+1jに連結されること、 前記残留物出口Srijが分離モジュールPij+1の透過物入口Epij+1に連結されること を特徴とし、 中間での再利用を行わないことを特徴とする、装置。
IPC (5)：
B01D 53/22 ,  B01D 63/06 ,  B01D 71/02 ,  G21C 19/303 ,  G21F 9/02
FI (5)：
B01D53/22 ,  B01D63/06 ,  B01D71/02 500 ,  G21C19/30 J ,  G21F9/02 511N
F-Term (17)：
4D006GA41 ,  4D006HA21 ,  4D006HA41 ,  4D006HA77 ,  4D006JA71 ,  4D006KA53 ,  4D006KA54 ,  4D006KA55 ,  4D006KA56 ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MC01 ,  4D006PA01 ,  4D006PB18 ,  4D006PB66 ,  4D006PB70 ,  4D006PC80
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (12)
  • エチレン水和反応における不純エチレン流の処理方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-139741   Applicant：日本合成アルコール株式会社
  • 膜分離デバイスおよび膜分離方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-026307   Applicant：財団法人川村理化学研究所
  • 特開昭61-209013
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