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J-GLOBAL ID：201003036933364578

粒子線治療システム

Inventor：
齋藤 一義

About 齋藤 一義

, 
西内 秀晶

About 西内 秀晶


Applicant, Patent owner：
株式会社日立製作所

About 株式会社日立製作所


Agent (1)： 春日 讓
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009098896
Publication number (International publication number)：2010251106
Application date： Apr. 15, 2009
Publication date： Nov. 04, 2010
Summary：
【課題】シンクロトロン出射時の周回ビーム粒子数やチューンの変化に対し、高精度な照射ビーム電流の制御を安定に維持できる粒子線治療システムを提供する。【解決手段】粒子線治療システム100は、シンクロトロン200と、ビーム輸送系300と、照射装置500から構成される。制御装置600は、ビーム輸送系300または治療室400内のビームモニタ52(33)で荷電粒子ビームの電流値を検出し、該電流値が予め定めた目標値に近づくように出射装置26に印加する高周波電圧の振幅と周波数を制御するフィードバック系を構成し、かつシンクロトロン200を周回する荷電粒子ビームの粒子数を検出するビームモニタ28の出力信号に基づきフィードバック系の利得を調整する利得演算器70を備えている。【選択図】図3
Claim (excerpt)：
前段加速器から入射した荷電粒子ビームを所定のエネルギーまで加速したのち、出射装置に印加した高周波電圧で安定限界を超えさせて荷電粒子ビームを出射するシンクロトロンと、前記シンクロトロンから出射された荷電粒子ビームを治療室まで導くビーム輸送系と、前記治療室で患者の患部形状に合わせて荷電粒子ビームを照射する照射装置とから構成される粒子線治療システムにおいて、 前記ビーム輸送系または前記治療室内に配置され、前記シンクロトロンから出射された荷電粒子ビームの電流値を検出する第1ビームモニタと、 前記第1ビームモニタにより検出した荷電粒子ビームの電流値が予め定めた目標値に近づくように前記出射装置に印加する高周波電圧の振幅を制御するフィードバック系を構成する制御装置と、 前記シンクロトロンを周回する荷電粒子ビームの電荷量を検出する第2ビームモニタと、 前記制御装置に設けられ、前記第2ビームモニタにより検出した荷電粒子ビームの電荷量に基づいて前記フィードバック系の高周波電圧振幅制御の利得を調整する利得調整手段とを備えることを特徴とする粒子線治療システム。
IPC (2)：
H05H 13/04 ,  A61N 5/10
FI (3)：
H05H13/04 M ,  A61N5/10 F ,  H05H13/04 G
F-Term (13)：
2G085AA13 ,  2G085BA11 ,  2G085BA13 ,  2G085CA02 ,  2G085CA15 ,  2G085CA17 ,  2G085CA22 ,  2G085CA26 ,  2G085EA07 ,  4C082AA01 ,  4C082AC04 ,  4C082AE01 ,  4C082AG02
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (5)
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