Pat
J-GLOBAL ID:201003041025999791
スペクトル画像処理方法、スペクトル画像処理プログラム、及びスペクトルイメージングシステム
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
古谷 史旺
, 森 俊秀
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008236153
Publication number (International publication number):2010071662
Application date: Sep. 16, 2008
Publication date: Apr. 02, 2010
Summary:
【課題】複数種類の蛍光物質で標識された被観察物のスペクトル画像を高精度にブラインドアンミックスする。【解決手段】本発明を例示するスペクトル画像処理方法は、被観察物の実測スペクトル画像を構成する各画素を、そのスペクトルの次元より低次元のM次元色空間へと写像する次元削減手順(S2〜S7)と、M次元色空間上で各画素の位置ベクトルの平均ベクトルを法線とした超平面を算出し、その超平面へ向けて各画素を原点から中心射影し、その超平面における各画素の分布域を示す超多面体のM個の頂点を見いだし、それら頂点に位置するM個の画素を最適サンプリング画素に選定する選定手順(S8〜S10)と、最適サンプリング画素に選定されたM個の画素の各々の実測スペクトルに基づき、被観察物を標識した複数種類の物質に固有の発光スペクトルを推定し、それら発光スペクトルと実測スペクトル画像とに基づき被観察物の各位置に対する複数種類の物質の寄与率を計算するアンミックス手順(S11〜S16)とを含む。【選択図】 図3
Claim (excerpt):
被観察物の実測スペクトル画像を構成する各画素を、そのスペクトルの次元より低次元のM次元色空間へと写像する次元削減手順と、
前記M次元色空間上で各画素の位置ベクトルの平均ベクトルを法線とした超平面を算出し、その超平面へ向けて前記各画素を原点から中心射影し、その超平面における前記各画素の分布域を示す超多面体のM個の頂点を見いだし、それら頂点に位置するM個の画素を最適サンプリング画素に選定する選定手順と、
最適サンプリング画素に選定された前記M個の画素の各々の実測スペクトルに基づき、前記被観察物を標識した複数種類の物質に固有の発光スペクトルを推定し、それら発光スペクトルと前記実測スペクトル画像とに基づき前記被観察物の各位置に対する前記複数種類の物質の寄与率を計算するアンミックス手順と
を含むことを特徴とするスペクトル画像処理方法。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (15):
2G043BA16
, 2G043DA01
, 2G043EA01
, 2G043FA01
, 2G043FA02
, 2G043FA06
, 2G043HA01
, 2G043HA09
, 2G043JA01
, 2G043KA02
, 2G043KA09
, 2G043LA03
, 2G043NA01
, 2G043NA02
, 2G043NA06
Patent cited by the Patent:
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