テラヘルツ放射の発生方法および装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：葛和清司
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2009553644
Publication number (International publication number)：2010521815
Application date： Mar. 14, 2008
Publication date： Jun. 24, 2010
Summary：

差周波数発生(DFG)による放射の発生方法および装置。例示的な一実現例においては、量子カスケードレーザー(QCL)は、QCLの活性領域に組み込まれる、有効な2次非線形感受率χ(2)を有する。QCLは、非線形感受率から生じる差周波数発生(DFG)に基づいて、第1の周波数ω1において第1の放射、第2の周波数ω2において第2の放射、および第3の周波数ω3=ω1-ω2において第3の放射を発生するように、構成される。1つの観点において、QCLは、室温においてかなりのTHz放射を発生するように構成してもよい。

Claim (excerpt)：

量子カスケードレーザーの活性領域に組み込まれる有効な2次非線形感受率(χ(2))を有する量子カスケードレーザー(QCL)であって、第1の周波数ω1における第1の放射、第2の周波数ω2における第2の放射、および第3の周波数ω3=ω1-ω2における第3の放射を、非線形感受率から生じる差周波数発生(DFG)に基づいて発生するように構成されている前記QCLを含む、装置。

IPC (2)：

H01S 5/343 , G02F 1/377

FI (2)：

H01S5/343 , G02F1/377

F-Term (16)：

2K002AB12 , 2K002BA01 , 2K002CA13 , 2K002CA22 , 2K002DA05 , 2K002EA28 , 2K002FA04 , 2K002FA05 , 2K002GA10 , 2K002HA19 , 5F173AF06 , 5F173AH30 , 5F173AP05 , 5F173AP09 , 5F173AR99 , 5F173AS05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

ユニポーラ多重波長レーザ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-052506 Applicant：トムソン-セーエスエフ
量子カスケードレーザー
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2002-527019 Applicant：アルプラゼールエス.アー.
表面プラズモンレーザ構造を有する装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-046367 Applicant：ルーセントテクノロジーズインコーポレイテッド

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

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