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J-GLOBAL ID:201003056350294912
準揮発性有機化合物の放散量測定方法および準揮発性有機化合物の放散量測定装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (6):
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 鈴木 三義
, 西 和哉
, 村山 靖彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008201297
Publication number (International publication number):2010038700
Application date: Aug. 04, 2008
Publication date: Feb. 18, 2010
Summary:
【課題】被測定物からの準揮発性有機化合物(SVOC)の放散量をより正確で高精度に求めることが可能な、準揮発性有機化合物の放散量測定方法及び測定装置を提供する。【解決手段】被測定物2から放散する準揮発性有機化合物の放散量を測定する方法である。チャンバー3内に被測定物2と、被測定物2から放散しない標準物質を発生する標準物質発生源4とを配置し、チャンバー3内の特定点Pを濃度測定位置に決定する。チャンバー3内に一方向層流の気流を生じさせ、その状態で濃度測定位置において空気を捕集する。捕集した空気中の準揮発性有機化合物の濃度と標準物質の濃度とを測定する。標準物質の濃度測定結果と標準物質の理論濃度との関係に基づき、準揮発性有機化合物の濃度測定結果を補正して準揮発性有機化合物の放散量を求める。チャンバー3内の特定点Pは、一方向層流の気流中において、被測定物2の下流側となる点を選択する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
チャンバー内に設置した被測定物から放散する準揮発性有機化合物の放散量を測定する方法であって、
前記チャンバー内に前記被測定物を配置するとともに、該被測定物の近傍に、前記被測定物から放散しない標準物質を発生する標準物質発生源を配置する工程と、
前記チャンバー内の特定点を濃度測定位置に決定する工程と、
前記チャンバー内に、一方向層流の気流を生じさせる工程と、
前記一方向層流の気流を生じさせている状態で、前記濃度測定位置において空気を捕集する工程と、
前記捕集した空気中の前記準揮発性有機化合物の濃度を測定するとともに、該空気中の前記標準物質の濃度を測定する工程と、
前記標準物質の濃度測定結果と該標準物質の理論濃度との関係に基づき、前記準揮発性有機化合物の濃度測定結果を補正して前記準揮発性有機化合物の放散量を求める工程と、を備え
前記チャンバー内の特定点を決定する工程では、前記一方向層流の気流中において、前記被測定物の下流側となる点を選択することを特徴とする準揮発性有機化合物の放散量測定方法。
IPC (2):
FI (2):
G01N1/22 A
, G01N1/00 101R
F-Term (19):
2G052AA03
, 2G052AB22
, 2G052AC12
, 2G052AD02
, 2G052AD22
, 2G052AD42
, 2G052BA14
, 2G052CA04
, 2G052CA12
, 2G052CA36
, 2G052CA38
, 2G052EB11
, 2G052ED01
, 2G052ED11
, 2G052GA24
, 2G052GA27
, 2G052HB08
, 2G052HC28
, 2G052JA09
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (7)
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建築材料からの発生ガスを捕集する装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-080628
Applicant:株式会社竹中工務店
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半導体基板表面の不純物の分析方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-270531
Applicant:東芝マイクロエレクトロニクス株式会社, 株式会社東芝
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排ガス測定装置及びその標準試料発生器
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-011105
Applicant:株式会社日立ハイテクノロジーズ
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Article cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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