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J-GLOBAL ID：201003063546868972

欠陥検査装置および欠陥検査方法

Inventor：
三 井 正

About 三 井 正


Applicant, Patent owner：
株式会社東芝

About 株式会社東芝


Agent (5)： 吉武 賢次 ,  佐藤 泰和 ,  吉元 弘 ,  川崎 康 ,  箱崎 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009004802
Publication number (International publication number)：2010164333
Application date： Jan. 13, 2009
Publication date： Jul. 29, 2010
Summary：
【課題】検査パターンと参照パターンとの比較を行う欠陥検査法に関し、検査対象パターンの微小な変動による擬似欠陥の発生を防ぎ、微小な欠陥を感度良く検出する。【解決手段】検査パターンの画像を取得する工程と、前記画像から前記検査パターンの輪郭を検出する工程と、検出された輪郭を境界として前記画像を検査領域と非検査領域とに分割する工程と、前記画像の濃度分布を求めるための画像処理を前記検査領域に対してのみ施し、得られた前記濃度分布に基づいて前記検査パターンの欠陥検出を行う工程と、を備える。【選択図】図2
Claim (excerpt)：
検査パターンの画像を取得する工程と、 前記画像から前記検査パターンの輪郭を検出する工程と、 検出された輪郭を境界として前記画像を検査領域と非検査領域とに分割する工程と、 前記画像の濃度分布を求めるための画像処理を前記検査領域に対してのみ施し、得られた前記濃度分布に基づいて前記検査パターンの欠陥検出を行う工程と、 を備える欠陥検査方法。
IPC (1)：
G01N 21/956
FI (1)：
G01N21/956 A
F-Term (10)：
2G051AA51 ,  2G051AA90 ,  2G051AB02 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051EA11 ,  2G051EA12 ,  2G051ED01 ,  2G051ED22 ,  2G051ED23
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (18)
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