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J-GLOBAL ID：201003068793092342

ターゲット装置

Inventor：
矢島 暁

About 矢島 暁

, 
丸橋 晃

About 丸橋 晃


Applicant, Patent owner：
住友重機械工業株式会社

About 住友重機械工業株式会社

, 
国立大学法人京都大学

About 国立大学法人京都大学


Agent (2)： 長谷川 芳樹 ,  黒木 義樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008171162
Publication number (International publication number)：2010008369
Application date： Jun. 30, 2008
Publication date： Jan. 14, 2010
Summary：
【課題】冷却水の滞留を抑えてターゲットの排熱効率を容易に向上できるターゲット装置を提供する。【解決手段】固体状のターゲット10に接する冷却板15を備えるターゲット装置であり、冷却板15には、ターゲット10に接して流動する冷却水Wが通過する螺旋溝17が形成されている。螺旋溝17は、隣接して並んでおり、冷却板15は、隣接する一対の螺旋溝17を区画する隔壁部28を有する。隔壁部28は、ターゲット10に近い側の方がターゲット10から遠い側よりも薄くなっている。したがって、螺旋溝17を流動する冷却水Wがターゲット10に接する接触面積が拡がる。さらに、ターゲット10に近接して対面する隔壁部28の先端29bは狭くなるため、冷却水Wがターゲット10との隙間Sに進入して滞留する虞が少なくなる。【選択図】図4
Claim (excerpt)：
加速粒子の照射を受ける固体状のターゲットと、 前記ターゲットに接する冷却部と、を備え、 前記冷却部には、前記ターゲットに接して流動する冷却水が通過する冷却溝が形成されており、 前記冷却溝は、隣接して並ぶ少なくとも一対の並行部を有し、 前記冷却部は、前記一対の並行部を区画する隔壁部を有し、 前記隔壁部は、前記ターゲットに近い側の方が前記ターゲットから遠い側よりも薄いことを特徴とするターゲット装置。
IPC (2)：
G21K 5/08 ,  H05H 6/00
FI (2)：
G21K5/08 C ,  H05H6/00
F-Term (5)：
2G085AA11 ,  2G085BA17 ,  2G085BE02 ,  2G085DA03 ,  2G085EA07
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (4)
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