高分岐ポリマーを用いた光パターニング組成物

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (9)：萼経夫 , 宮崎嘉夫 , 加藤勉 , 小山京子 , 小野塚薫 , 田上明夫 , ▲高▼ 昌宏 , 森則雄 , 山田清治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008186586
Publication number (International publication number)：2010024330
Application date： Jul. 17, 2008
Publication date： Feb. 04, 2010
Summary：

【課題】高分岐ポリマーを用いた光パターニング組成物を提供すること。【解決手段】本発明の高分岐ポリマーを用いた光パターニング組成物は、分子内に2個のラジカル重合性不飽和二重結合を有するラジカル重合性モノマーAと、分子内に酸分解性基および1個のラジカル重合性不飽和二重結合を有するラジカル重合性モノマーBを、該ラジカル重合性モノマーAおよび該ラジカル重合性モノマーBの合計モル数に対して5モル%以上200モル%以下の重合開始剤Cの存在下で重合させることにより得られる高分岐ポリマーを含有することを特徴とする。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

分子内に2個のラジカル重合性不飽和二重結合を有するラジカル重合性モノマーAと、分子内に酸分解性基および1個のラジカル重合性不飽和二重結合を有するラジカル重合性モノマーBを、該ラジカル重合性モノマーAおよび該ラジカル重合性モノマーBの合計モル数に対して5モル%以上200モル%以下の重合開始剤Cの存在下で重合させることで得られる高分岐ポリマー。

IPC (4)：

C08F 212/36 , C08F 220/18 , C08F 8/12 , G03F 7/039

FI (4)：

C08F212/36 , C08F220/18 , C08F8/12 , G03F7/039 601

F-Term (44)：

2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC01 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BF02 , 2H025BF11 , 2H025BG00 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J100AB15P , 4J100AB16P , 4J100AE64P , 4J100AE69P , 4J100AE70P , 4J100AE71P , 4J100AF11P , 4J100AL03Q , 4J100AL08Q , 4J100AL66P , 4J100AL75P , 4J100AL92P , 4J100AP17P , 4J100AR16P , 4J100AR17P , 4J100AR18P , 4J100AR21P , 4J100AS01P , 4J100AS02P , 4J100AS03P , 4J100AS04P , 4J100BA16H , 4J100BC09Q , 4J100CA04 , 4J100CA23 , 4J100CA31 , 4J100DA01 , 4J100FA03 , 4J100HA08 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

特許第4009700号公報
国際公開第05/061566号パンフレット
極端紫外線用レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-066513 Applicant：ライオン株式会社, 兵庫県

Cited by examiner (1)

ハイパーブランチポリマーの合成方法およびレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-338941 Applicant：ライオン株式会社

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