極端紫外線用レジスト組成物

Inventor： , , , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (6)：熊倉禎男 , 小川信夫 , 箱田篤 , 浅井賢治 , 平山孝二 , 松田七重
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006066513
Publication number (International publication number)：2007241121
Application date： Mar. 10, 2006
Publication date： Sep. 20, 2007
Summary：

【課題】感度及びラインエッジラフネスを向上させたEUV用レジスト組成物を提供すること。【解決手段】シェル部がビニル安息香酸tertブチルエステル等の酸分解性の繰り返し単位を有するコアシェル型ハイパーブランチポリマーと、下記式で表される光酸発生剤とを含有するレジスト組成物。(式中、R9は置換されてもよい水素原子、炭素数1〜10の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、又は炭素数6〜30のアリール基を表す。R10及びR11は炭素数1〜6の直鎖状、分岐状もしくは環状の少なくとも1個以上のフッ素原子を含むアルキル基を示すか、或いは互いに一緒になって環を形成してもよい。)

Claim (excerpt)：

少なくとも下記式(I)で表されるモノマーを重合させてなるコア部と下記式(II)及び/又は下記式(III)で表される繰り返し単位を含有するシェル部とを有するコアシェル構造を有する1種以上のハイパーブランチポリマーと、下記式(IV)、(V)、(VI)又は(VII)で表される1種以上の光酸発生剤とを含有することを特徴とする極端紫外線用レジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 , G03F 7/004 , H01L 21/027

FI (4)：

G03F7/039 601 , G03F7/004 501 , G03F7/004 503A , H01L21/30 502R

F-Term (16)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025BJ10 , 2H025CB14 , 2H025CB16 , 2H025CB17 , 2H025CB41 , 2H025CB54 , 2H025CC20

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (22)

フォトレジスト用樹脂及びフォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-023844 Applicant：住友ベークライト株式会社
ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-068850 Applicant：富士写真フイルム株式会社
ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-149620 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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