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J-GLOBAL ID：201003089382268862

励起フィールドによって励起された材料において非線形の光信号を生成するための方法および光学的装置、ならびに、該方法の使用および該光学的装置の使用

Inventor： インゴ リムケ ,  セーズ オットー ,  エドレフ ビュットナー ,  ヘルマン エル. オファーハウス ,  マルティン ユルナ
Applicant, Patent owner： アーペーエー アンゲヴァンテ フュジーク ウント エレクトローニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
Agent (8)： 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  杉本 博司 ,  高橋 佳大 ,  星 公弘 ,  二宮 浩康 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2010506840
Publication number (International publication number)：2010526345
Application date： May. 05, 2008
Publication date： Jul. 29, 2010
Summary：

本発明は、励起フィールド(2)によって励起された材料(16)において非線形の光信号(17)を生成するための方法および光学的装置(10)であって、該励起フィールド(2)によってコヒーレントであり異なる周波数の第1の光パルスおよび第2の光パルスのフィールドを該材料(16)において時間的および位置的にオーバーラップし、第1の周波数の第1のパルスを、第1の光学的ジェネレータユニット(1)の第1のビーム(3)で生成し、第2の周波数の第2のパルスを、前記第1の光学的ジェネレータユニット(1)によって同期ポンピングされる第2の光学的ジェネレータユニットの第2のビーム(8)で生成し、基本周波数として前記第1の周波数の第1のパルスを使用して、該第1の周波数の高調波周波数のパルス(5)を生成し(SHG)、該高調波周波数のパルスによって前記第2の光学的ジェネレータユニット(7)をポンピングする方法および光学的装置(10)に関する。本発明では、前記第2の光学的ジェネレータユニット(7)が光学的パラメトリックジェネレータユニットとして、前記第2のビーム(8)において、前記第1の周波数より低い第2の周波数の第2のパルスを形成するためにアイドラビームにおいてアイドラ周波数のパルスを生成し、信号ビーム(9)において前記第2の周波数より高い信号周波数のパルスを生成する。

Claim (excerpt)：

励起フィールド(2)によって励起された材料(16)において非線形の光信号(17)を生成するための方法であって、 前記励起フィールド(2)によってコヒーレントである異なる周波数の第1の光パルスおよび第2の光パルスのフィールドが前記材料(16)において時間的および空間的にオーバーラップし、 第1の光学的ジェネレータユニット(1)の第1のビーム(3)において第1の周波数の前記第1の光パルスを生成し、該第1の光学的ジェネレータユニット(1)によって同期ポンピングされる第2の光学的ジェネレータユニット(7)の第2のビーム(8)において第2の周波数の第2の光パルスを生成し、 前記第1の周波数の第1の光パルスを基本周波数として使用して、該基本周波数のより高次の高調波周波数のパルスを生成し(SHG)、該高次の高調波周波数のパルス(5)によって前記第2の光学的ジェネレータユニットをポンピングする方法において、 光学的パラメトリックジェネレータユニットである前記第2の光学的ジェネレータユニット(7)は、前記第2のビーム(8)において、前記第1の周波数より低い前記第2の周波数の第2の光パルスを形成するためにアイドラビームにおいてアイドラ周波数のパルスを生成し、 前記第2の光学的パラメトリックジェネレータ(7)は、信号ビーム(9)において、前記第2の周波数より高い信号周波数のパルスを生成することを特徴とする方法。

IPC (3)：

G02F 1/39 ,  G02F 2/00 ,  G01N 21/65

FI (3)：

G02F1/39 ,  G02F2/00 ,  G01N21/65

F-Term (27)：

2G043AA03 ,  2G043CA05 ,  2G043EA04 ,  2G043GA02 ,  2G043GB01 ,  2G043HA02 ,  2G043HA07 ,  2G043HA09 ,  2G043HA15 ,  2G043JA01 ,  2G043KA01 ,  2G043KA02 ,  2G043KA07 ,  2G043KA08 ,  2G043KA09 ,  2G043LA01 ,  2G043LA02 ,  2G043LA03 ,  2K002AA04 ,  2K002AB12 ,  2K002AB19 ,  2K002BA02 ,  2K002BA04 ,  2K002CA02 ,  2K002EA30 ,  2K002HA20 ,  2K002HA21

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 光波長同調方法および光発振装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-087473   Applicant：ソニー株式会社
• 顕微鏡
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-199554   Applicant：オリンパス株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Noncritical phase-matched lithium triborate optical parametric oscillator for high resolution cohere