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J-GLOBAL ID：201003099793340217
質量分析用デバイスおよびその作製方法、並びに、そのデバイスを用いたレーザ脱離イオン化質量分析装置および分析方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：
柳田 征史
, 佐久間 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008236247
Publication number (International publication number)：2010071664
Application date： Sep. 16, 2008
Publication date： Apr. 02, 2010
Summary：
【課題】レーザ脱離イオン化質量分析において、不要なイオン化促進剤の飛散を防止してイオン化促進剤由来の妨害ピークを低減し、より定量性の高い分析を可能とする。【解決手段】イオン化された被分析物質のマススペクトルを測定するレーザ脱離イオン化質量分析方法に用いられる質量分析用デバイスにおいて、 複数の凹状微細構造を有する微細構造層を備え、 凹状微細構造における開口の開口幅が、凹状微細構造の構造幅よりも小さいものとする。そして、開口を小さくすることにより出口が狭くなった凹状微細構造に、イオン化促進剤を貯留する。【選択図】図1A
Claim (excerpt)：
質量分析用デバイスの供給面上に供給された被分析物質を、レーザ光照射により前記質量分析用デバイスから脱離させ、イオン化された前記被分析物質のマススペクトルを測定するレーザ脱離イオン化質量分析方法に用いられる質量分析用デバイスにおいて、
複数の凹状微細構造を有する微細構造層を備え、
該複数の凹状微細構造が、前記供給面に開口を有するものであり、
該開口の開口幅が、前記凹状微細構造の構造幅よりも小さいことを特徴とする質量分析用デバイス。
IPC (1)：
FI (1)：
F-Term (13)：
2G041AA08
, 2G041CA01
, 2G041DA03
, 2G041DA04
, 2G041EA03
, 2G041FA09
, 2G041FA12
, 2G041GA03
, 2G041GA06
, 2G041GA08
, 2G041GA16
, 2G041JA07
, 2G041LA07
