Art

J-GLOBAL ID：201102222384971388   Reference number：11A0130623

Quantitative strain analysis of surfaces and interfaces using extremely asymmetric x-ray diffraction

極めて非対称なX線回折を使った表面と界面の定量的な歪分析

Author (2)： AKIMOTO Koichi (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  EMOTO Takashi (Toyota National Coll. Technol., Aichi, JPN)
Material： Journal of Physics. Condensed Matter  (J Phys Condens Matter)
Volume： 22  Issue： 47  Page： 473001,1-19  Publication year： Dec. 01, 2010 
JST Material Number： B0914B  ISSN： 0953-8984  CODEN： JCOMEL  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *lattice distortion ,  thin film growth ,  *X-Ray Diffraction ,  *dynamic diffraction ,  surface ,  interface (surface) ,  silicon dioxide ,  silicon ,  surface reconstruction ,  Nickel ,  Hydrogen ,  sputtered deposition ,  Gold ,  ion implantation ,  indium compound ,  gallium compound ,  phosphide ,  *rocking curve ,  hafnium oxide ,  asymmetry ,  gallium indium phosphide

JST classification (3)： X-ray diffraction methods  (BK01020I) ,  Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I) ,  Mechanical properties of solids in general  (BL01021C)

Terms in the title (6)： 非対称 ,  X線回折 ,  界面 ,  定量 ,  歪 ,  分析