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J-GLOBAL ID：201102251357083209   Reference number：11A1238361

Preparation of Cr(N,O) thin films by RF reactive unbalanced magnetron sputtering

RF反応性不平衡マグネトロンスパッタリングによるCr(N,O)薄膜の作製

Author (8)： SHIRAHATA Jun ,  OHORI Tetsutaro ,  ASAMI Hiroki ,  SUZUKI Tsuneo ,  NAKAYAMA Tadachika ,  SUEMATSU Hisayuki ,  NAKAJIMA Yoshiharu ,  NIIHARA Koichi
Material： Thin Solid Films
Volume： 519  Issue： 11  Page： 3497-3500  Publication year： Mar. 31, 2011 
JST Material Number： B0899A  ISSN： 0040-6090  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *magnetron sputtering ,  *chromium compound ,  *nitride ,  thin film growth ,  Rutherford scattering spectroscopy ,  FTIR spectroscopy ,  *oxide ,  nanoindentation ,  hardness ,  *reactive magnetron sputtering

JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Terms in the title (7)： RF ,  反応性 ,  不平衡 ,  マグネトロンスパッタリング ,  Cr ,  薄膜 ,  作製