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J-GLOBAL ID：201102268378027660   Reference number：11A1074483

Selective Adsorption of Organosilane Molecules Along Step Edges of Atomically Flattened Si(111) Surfaces

原子的に平坦化したSi(111)表面の階段端に沿った有機シラン分子の選択吸着

Author (6)： SAKANE Hiroki (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  YOSHIMATSU Akina (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  SHIGETOSHI Takushi (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  UCHIKOSHI Junichi (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  MORITA Mizuho (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  ARIMA Kenta (Osaka Univ., Osaka, JPN)
Material： Journal of Nanoscience and Nanotechnology  (J Nanoscience Nanotechnology)
Volume： 11  Issue： 4  Page： 2962-2967  Publication year： Apr. 2011 
JST Material Number： W1351A  ISSN： 1533-4880  CODEN： JNNOAR  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： flatness (property) ,  *Adsorption ,  silanes ,  *organosilicon compound ,  *surface steps ,  surface modification ,  oxidation ,  aliphatic amine ,  primary amine ,  local oxidation ,  *selective adsorption ,  organic silane

JST classification (1)： Study of adsorption by physical means  (CB12043P)

Substance index (2)： 3-Aminopropyltriethoxysilane ,  Octadecyltrichlorosilane

Terms in the title (7)： 原子 ,  平坦化 ,  Si ,  階段 ,  有機シラン ,  分子 ,  選択吸着