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J-GLOBAL ID：201102272089225051   Reference number：11A1147935

Improved Electrodeposited Multilayer Structure by Coulomb Controller

Coulombコントローラによる電着多層構造の改良

Author (4)： TAKANE Naoto (Nagano Prefecture General Industrial Technol. Center, Nagano, JPN) ,  TAKANE Naoto (Shinshu Univ., Nagano, JPN) ,  NARITA Hiroshi (Nagano Prefecture General Industrial Technol. Center, Nagano, JPN) ,  ARAI Susumu (Shinshu Univ., Nagano, JPN)
Material： 電気化学および工業物理化学  (Electrochemistry)
Volume： 79  Issue： 7  Page： 558-560  Publication year： Jul. 05, 2011 
JST Material Number： G0072A  ISSN： 1344-3542  CODEN： EECTFA  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *control equipment ,  *electrodeposition ,  *multistory structure ,  homogeneity ,  *film thickness ,  cobalt ,  copper ,  scanning electron microscope ,  microscopy ,  Faraday effect
Semi thesaurus term： *controller ,  field emission scanning electron microscope

JST classification (2)： Electrochemical reaction  (CB07050F) ,  Metallic thin films  (BK14030T)

Reference (4)：

• 1) T. Hattori, Y. Kaneko, and S. Hashimoto, J. Jpn. Inst. Met., 73, 306 (2009) [in Japanese].
• 2) Á. Cziráki, M. Köteles, L. Péter, Z. Kupay, J. Pádár, L. Pogány, I. Bakonyi, M. Uhlemann, M. Herrich, B. Arnold, J. Thomas, H. D. Bauer, and K. Wetzig, Thin Solid Films, 433, 237 (2003).
• 3) N. Takane and H. Narita, Electrochemistry, 75, 879 (2007) [in Japanese].
• 4) N. Takane, H. Narita, and S. Arai, Electrochemistry, 79, 156 (2011).

Terms in the title (4)： Coulomb ,  コントローラ ,  電着 ,  多層構造