Art

J-GLOBAL ID：201102285830936445   Reference number：11A0587556

Development of Measurement and Analysis System for Electrolytic Current and Application to Multilayer Electrodeposition with a Coulomb Controller

電解電流の測定及び分析系の開発とCoulombコントローラによる多層電着への適用

Author (4)： TAKANE Naoto (Nagano Prefecture General Industrial Technol. Center, Nagano, JPN) ,  TAKANE Naoto (Shinshu Univ., Nagano, JPN) ,  NARITA Hiroshi (Nagano Prefecture General Industrial Technol. Center, Nagano, JPN) ,  ARAI Susumu (Shinshu Univ., Nagano, JPN)
Material： 電気化学および工業物理化学  (Electrochemistry)
Volume： 79  Issue： 3  Page： 156-162  Publication year： Mar. 05, 2011 
JST Material Number： G0072A  ISSN： 1344-3542  CODEN： EECTFA  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *electrolytic current ,  control equipment ,  multilayer ,  *multilayer film ,  *electrodeposition ,  voltage control ,  thin film growth ,  film thickness ,  scanning electron microscope ,  cross section(face) ,  thickness of strata ,  *multistory structure ,  cobalt ,  copper ,  overshoot
Semi thesaurus term： controller ,  field emission scanning electron microscope

JST classification (3)： Inorganic compounds and elements in general  (CD01010D) ,  Electrochemical reaction  (CB07050F) ,  Metallic thin films  (BK14030T)

Reference (7)：

• 1) Á. Cziráki, M. Köteles, L. Péter, Z. Kupay, J. Pádár, L. Pogány, I. Bakonyi, M. Uhlemann, M. Herrich, B. Arnold, J. Thomas, H. D. Bauer, and K. Wetzig, Thin Solid Films, 433, 237 (2003).
• 2) S. Kainuma, S. Ishikura, and K. Hisatake, J. Magn. Soc. Jpn., 21, 557 (1997) [in Japanese].
• 3) T. Miyake, M. Kume, K. Yamaguchi, D. P. Amalnerkar, and H. Minoura, Thin Solid Films, 397, 83 (2001).
• 4) T. Hattori, Y. Kaneko, and S. Hashimoto, J. Jpn. Inst. Met., 73, 306 (2009) [in Japanese].
• 5) A. Bartók, A. Csik, K. Vad, G. Molnár, E. Tóth-Kádár, and L. Péter, J. Electrochem. Soc., 156, D253 (2009).

Terms in the title (7)： 電解電流 ,  分析 ,  開発 ,  Coulomb ,  コントローラ ,  多層 ,  電着