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J-GLOBAL ID：201102280064878754   Reference number：11A1152344

Vacuum evaporation and sputtering: introduction to thin film preparation

〈今さら聞けない?基礎中の基礎〉薄膜作製のイロハ,真空蒸着法とスパッタリング法

Author (1)： ISHII KIYOSHI (宇都宮大 大学院)
Material： 応用物理  (JSAP International)
Volume： 80  Issue： 7  Page： 626-630  Publication year： Jul. 10, 2011 
JST Material Number： F0252A  ISSN： 0369-8009  CODEN： OYBSA  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *vacuum deposition ,  *sputtering ,  *thin film growth ,  sputtered deposition ,  mean free path ,  substrate temperature

JST classification (1)： Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I)

Reference (13)：

• 金原粲. 薄膜. 1982
• 和佐清孝. 薄膜化技術. 2003
• 麻蒔立男. 薄膜作成の基礎. 1996
• 日本学術振興会薄膜第131委員会編. 薄膜ハンドブック. 2008
• 日本表面科学会編. 薄膜技術. 1999

Terms in the title (4)： 基礎 ,  薄膜作製 ,  真空蒸着法 ,  スパッタリング法