パターン形成方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：赤尾謙一郎 , 下田昭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010107032
Publication number (International publication number)：2011237508
Application date： May. 07, 2010
Publication date： Nov. 24, 2011
Summary：

【課題】光照射によって現像を経ずにパターン形成が可能なパターン形成方法を提供する。【解決手段】光及び/又は熱によって可逆的に開環-閉環する環を有する基本骨格に修飾基が導入されてフォトクロミズムを示すフォトクロミック化合物を含む感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、基本骨格は、式I【化1】で示される構造を有し、開環を行う開環波長光を感光性組成物に照射し、該感光性組成物を物質移動させるものである。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

光及び/又は熱によって可逆的に開環-閉環する環を有する基本骨格に修飾基が導入されてフォトクロミズムを示すフォトクロミック化合物を含む感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、前記基本骨格は、式I

IPC (3)：

G03C 5/56 , G03C 1/685 , G02B 5/23

FI (3)：

G03C5/56 , G03C1/685 , G02B5/23

F-Term (4)：

2H048DA04 , 2H048DA09 , 2H123AA13 , 2H123AA17

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

再表2006/95705公報
クロメン化合物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-156270 Applicant：株式会社トクヤマ
スピロナフトオキサジン化合物および該化合物を使用した感光材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-158474 Applicant：保土谷化学工業株式会社

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Cited by examiner (4)

クロメン化合物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-156270 Applicant：株式会社トクヤマ
スピロナフトオキサジン化合物および該化合物を使用した感光材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-158474 Applicant：保土谷化学工業株式会社
光表面レリーフ形成用感光性材料および感光性薄膜、並びにその感光性材料を用いたレリーフ形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-282217 Applicant：財団法人理工学振興会

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