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J-GLOBAL ID：201103005594227277

FIB-CVDによる微小立体構造物の製造方法及び微小立体構造物の描画システム

Inventor： 星野 隆行 ,  松井 真二 ,  近藤 和茂
Applicant, Patent owner： エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社
Agent (1)： 清水 守
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2005502831
Patent number：4269028
Application date： Feb. 16, 2004
Claim (excerpt)：

【請求項1】 電子計算機を利用して設計した微小立体構造物の3次元モデルから高さ方向に分割した断面形状を算出した積層構造の離散的な描画データに基づいて、ビームの照射位置、照射時間を決定し、集束イオンビームを制御するとともに、前記離散的な描画データの描画順番を下に支持層があるかないかの条件で並び替え、下方に支持がないような中空構造を作製することにより、微小立体構造物を作製することを特徴とするFIB-CVDによる微小立体構造物の製造方法。

IPC (2)：

B81C 5/00 ( 200 6.01) ,  C23C 16/48 ( 200 6.01)

FI (2)：

B81C 5/00 ,  C23C 16/48

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 微小立体構造物、その製造方法及びその製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-286337   Applicant：科学技術振興事業団
• 特表平5-504377
  
• 3次元微細構造体作製方法および作製装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-060883   Applicant：セイコーインスツルメンツ株式会社