偏極キセノンの氷結・再ガス化装置および偏極キセノンの生成システム

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Applicant, Patent owner：
Agent (4)：鈴江武彦 , 野河信久 , 和田祐造 , 須田浩史
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2004168684
Publication number (International publication number)：2005342426
Patent number：3863154
Application date： Jun. 07, 2004
Publication date： Dec. 15, 2005
Claim (excerpt)：

【請求項1】磁場が加わる空洞部を有する磁場発生手段と、前記磁場発生手段の空洞部内に配置された密閉容器と、前記密閉容器に連結された加温媒体の導入管および排出管と、前記密閉容器内に収納された密閉型の氷結セルと、前記氷結セルに前記密閉容器を貫通して連結された偏極キセノンを含む希釈ガスの供給管および排気管と、前記氷結セルに密着して捲回され、冷却媒体が流通される冷却管とを具備したことを特徴とする偏極キセノンの氷結・再ガス化装置。

IPC (4)：

A61B 5/055 ( 200 6.01) , B01D 7/02 ( 200 6.01) , C01B 23/00 ( 200 6.01) , G01R 33/28 ( 200 6.01)

FI (4)：

A61B 5/05 383 , B01D 7/02 , C01B 23/00 M , G01N 24/02 A

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

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