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J-GLOBAL ID：201103009896818962

測定システム及び測定処理方法

Inventor：
太田 和之

About 太田 和之

, 
真継 優和

About 真継 優和

, 
斉藤 謙治

About 斉藤 謙治


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (6)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009150322
Publication number (International publication number)：2011007576
Application date： Jun. 24, 2009
Publication date： Jan. 13, 2011
Summary：
【課題】 パターン投影法により測定対象物の表面形状を測定する測定システムにおいて、表面形状の測定時に、あわせて測定対象物の散乱特性を抽出することを目的とする。【解決手段】 測定システムであって、ドットパターン光を所定の入射角で測定対象物100に照射する照明部110と、反射光を、前記入射角と略等しい反射角で受光する反射光測定部120と、前記受光された反射光の受光位置と、所定の基準位置との間のずれ量に基づいて、測定対象物100の表面の傾きを表面形状に関する情報として抽出するとともに、前記反射光の輝度値と、前記ドットパターン光のドットの径とを、散乱特性に関する情報として抽出する反射光抽出部130と、前記抽出された表面形状に関する情報と散乱特性に関する情報を、出力する出力部140とを備える。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
予め定められたパターン光を予め定められた入射角で測定対象に照射する照射手段と、 前記測定対象に照射されたパターン光の反射光を、前記入射角と略等しい反射角で受光する受光手段と、 前記受光手段により受光された反射光の受光位置と、予め定められた基準位置との間のずれ量に基づいて、前記パターン光が照射された領域における前記測定対象の表面形状に関する情報を抽出する第1の抽出手段と、 前記受光手段により受光された反射光の輝度値に関する情報と、前記測定対象における反射に伴う前記パターン光の広がりを示す情報とを、前記パターン光が照射された領域における前記測定対象の散乱特性に関する情報として抽出する第2の抽出手段と、 前記第1の抽出手段により抽出された前記測定対象の表面形状に関する情報と、前記第2の抽出手段により抽出された前記測定対象の散乱特性に関する情報とを、前記測定対象に対する測定結果として出力する出力手段と を備えることを特徴とする測定システム。
IPC (1)：
G01B 11/25
FI (1)：
G01B11/25 H
F-Term (24)：
2F065AA20 ,  2F065AA50 ,  2F065AA53 ,  2F065BB25 ,  2F065BB26 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065FF08 ,  2F065FF49 ,  2F065GG15 ,  2F065HH06 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ08 ,  2F065LL00 ,  2F065MM16 ,  2F065NN00 ,  2F065NN05 ,  2F065NN06 ,  2F065PP23 ,  2F065QQ29 ,  2F065QQ42 ,  2F065RR09 ,  2F065SS13
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)

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