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J-GLOBAL ID：201103012640287545

窒素含有水の処理方法及び窒素含有水の処理装置

Inventor：
長谷部 吉昭

About 長谷部 吉昭

, 
目黒 裕章

About 目黒 裕章

, 
江口 正浩

About 江口 正浩


Applicant, Patent owner：
オルガノ株式会社

About オルガノ株式会社


Agent (2)： 吉田 研二 ,  石田 純
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009208168
Publication number (International publication number)：2011056383
Application date： Sep. 09, 2009
Publication date： Mar. 24, 2011
Summary：
【課題】本発明は、完全混合型の槽で、且つ被処理水を連続流入させる系で、硝化菌及び脱窒菌を含有する微生物群をグラニュール化させることができる窒素含有水の処理方法及び処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、硝化部に被処理水を供給して、前記被処理水中のアンモニウムイオンを硝酸若しくは亜硝酸にまで酸化する硝化工程と、完全混合型の脱窒部に前記被処理水を供給すると共に、水素供与体を供給し、前記被処理水中の前記硝酸若しくは前記亜硝酸を窒素ガスに還元する脱窒工程と、を含む窒素含有水の生物処理方法であって、前記脱窒工程では、前記脱窒部内での水素供与体の濃度が経時的に変化するように、前記水素供与体の添加量に時間的変動を与える。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
硝化部に被処理水を供給して、前記被処理水中のアンモニウムイオンを硝酸若しくは亜硝酸にまで酸化する硝化工程と、 完全混合型の脱窒部に前記被処理水を供給すると共に、水素供与体を供給し、前記被処理水中の前記硝酸若しくは前記亜硝酸を窒素ガスに還元する脱窒工程と、を含む窒素含有水の生物処理方法であって、 前記脱窒工程では、前記脱窒部内での水素供与体の濃度が経時的に変化するように、前記水素供与体の添加量に時間的変動を与えることを特徴とする窒素含有水の処理方法。
IPC (1)：
C02F 3/34
FI (3)：
C02F3/34 101A ,  C02F3/34 101B ,  C02F3/34 101C
F-Term (15)：
4D003EA14 ,  4D003EA38 ,  4D003FA10 ,  4D040BB02 ,  4D040BB05 ,  4D040BB12 ,  4D040BB13 ,  4D040BB15 ,  4D040BB23 ,  4D040BB42 ,  4D040BB52 ,  4D040BB57 ,  4D040BB82 ,  4D040BB91 ,  4D040BB93
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)

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