Pat
J-GLOBAL ID:201103014540358260
SiC単結晶の製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5):
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 関根 宣夫
, 堂垣 泰雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2010033949
Publication number (International publication number):2011168447
Application date: Feb. 18, 2010
Publication date: Sep. 01, 2011
Summary:
【課題】種結晶及びその近傍に付着する多結晶を抑制することができるSiC単結晶の製造方法を提供する。【解決手段】種結晶保持部の下端に保持された第1の種結晶を坩堝内の原料融液に浸漬させることにより前記第1の種結晶上にSiC単結晶を成長させるSiC単結晶の製造方法において、前記第1の種結晶以外の部分で、多結晶の成長を促進させる処理が行われることを特徴とするSiC単結晶の製造方法が提供される。【選択図】図4
Claim (excerpt):
種結晶保持部の下端に保持された第1の種結晶を坩堝内の原料融液に浸漬させることにより前記第1の種結晶上にSiC単結晶を成長させるSiC単結晶の製造方法において、
前記第1の種結晶以外の部分で、多結晶の成長を促進させる処理が行われることを特徴とする、SiC単結晶の製造方法。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (11):
4G077AA02
, 4G077BE08
, 4G077CG02
, 4G077CG07
, 4G077EG25
, 4G077HA12
, 4G077QA04
, 4G077QA11
, 4G077QA26
, 4G077QA38
, 4G077QA52
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
-
特開昭60-260498
-
炭化珪素(SiC)単結晶の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-164061
Applicant:住友金属工業株式会社
-
溶液法による炭化ケイ素単結晶の製造のための製造設備
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-321260
Applicant:トヨタ自動車株式会社
Return to Previous Page