感活性光線性又は感放射線性樹脂の製造方法、この方法により得られる樹脂、この樹脂を含んだ組成物、並びに、この組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (18)：蔵田昌俊 , 河野哲 , 中村誠 , 福原淑弘 , 峰隆司 , 白根俊郎 , 村松貞男 , 野河信久 , 幸長保次郎 , 河野直樹 , 砂川克 , 勝村紘 , 佐藤立志 , 岡田貴志 , 堀内美保子 , 竹内将訓 , 市原卓三 , 山下元
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010033850
Publication number (International publication number)：2011168698
Application date： Feb. 18, 2010
Publication date： Sep. 01, 2011
Summary：

【課題】活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する構造部位を備えた繰り返し単位と酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる基を備えた繰り返し単位とを含んだ感活性光線性又は感放射線性樹脂を高純度で製造可能とする技術を提供する。【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂の製造方法は、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する構造部位を備えた第1単量体と、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる基を備えた第2単量体とを含んだ反応系を、塩基性化合物の存在下で重合させることを含んでいる。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する構造部位を備えた第1単量体と、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる基を備えた第2単量体とを含んだ反応系を、塩基性化合物の存在下で重合させることを含んだ感活性光線性又は感放射線性樹脂の製造方法。

IPC (5)：

C08F 220/10 , G03F 7/039 , G03F 7/004 , H01L 21/027 , C08F 212/14

FI (5)：

C08F220/10 , G03F7/039 601 , G03F7/004 503A , H01L21/30 502R , C08F212/14

F-Term (81)：

2H125AF15P , 2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF20P , 2H125AF21P , 2H125AF26P , 2H125AF34P , 2H125AF36P , 2H125AF45P , 2H125AF52P , 2H125AH05 , 2H125AH12 , 2H125AH14 , 2H125AH15 , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AJ04X , 2H125AJ04Y , 2H125AJ14X , 2H125AJ14Y , 2H125AJ48X , 2H125AJ48Y , 2H125AJ65X , 2H125AJ65Y , 2H125AJ68X , 2H125AJ69X , 2H125AJ69Y , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN65P , 2H125BA01P , 2H125BA26P , 2H125BA33P , 2H125CA12 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125EA01P , 4J100AB07P , 4J100AB07Q , 4J100AK32R , 4J100AL03P , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL39Q , 4J100AM47Q , 4J100AM49Q , 4J100BA02P , 4J100BA03P , 4J100BA04P , 4J100BA06P , 4J100BA11R , 4J100BA15Q , 4J100BA15R , 4J100BA40R , 4J100BA50Q , 4J100BA56Q , 4J100BA58Q , 4J100BA59Q , 4J100BB10Q , 4J100BB12Q , 4J100BB18Q , 4J100BC03P , 4J100BC04P , 4J100BC09P , 4J100BC09R , 4J100BC43Q , 4J100BC49Q , 4J100BC53P , 4J100BC53R , 4J100BC65Q , 4J100CA03 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100EA01 , 4J100FA02 , 4J100FA19 , 4J100GC35 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-271429 Applicant：信越化学工業株式会社
レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2009-186298 Applicant：信越化学工業株式会社
感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2008-009840 Applicant：富士フイルム株式会社

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