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J-GLOBAL ID:201103031161689102

シンチレータパネル及び放射線撮像装置とその製造方法、ならびに放射線撮像システム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 阿部 琢磨 ,  黒岩 創吾
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2009296524
Publication number (International publication number):2011137665
Application date: Dec. 26, 2009
Publication date: Jul. 14, 2011
Summary:
【課題】 基板に形成したシンチレータ層の剥離を低減することができるシンチレータパネル及び放射線撮像装置を実現することを目的とする。【解決手段】 シンチレータパネルは、基板と、シンチレータ層と、を有し、基板は、凹凸形状の表面を有する第1の板と、第1の板の凹凸形状に対向して第1の板に固定された、平らな第2の板と、を有し、シンチレータ層は、第2の板の第1の板側とは反対側に配置されている。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
基板と、シンチレータ層と、を有するシンチレータパネルであって、 前記基板は、凹凸形状の表面を有する第1の板と、前記第1の板の前記凹凸形状に対向して前記第1の板に固定された、平らな第2の板と、を有し、 前記シンチレータ層は、前記第2の板の前記第1の板側とは反対側に配置されていることを特徴とするシンチレータパネル。
IPC (2):
G21K 4/00 ,  G01T 1/20
FI (2):
G21K4/00 A ,  G01T1/20 L
F-Term (15):
2G083AA02 ,  2G083AA08 ,  2G083BB01 ,  2G083CC04 ,  2G083CC07 ,  2G083DD01 ,  2G083DD02 ,  2G083DD11 ,  2G083EE07 ,  2G088EE03 ,  2G088FF02 ,  2G088GG19 ,  2G088GG20 ,  2G088JJ09 ,  2G088JJ37
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (9)
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Cited by examiner (11)
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