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J-GLOBAL ID：201103039995335279

ビーム記録方法及び装置

Inventor： 加園 修 ,  熊坂 治
Applicant, Patent owner： パイオニア株式会社
Agent (1)： 藤村 元彦
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2006550634
Patent number：4528308
Application date： Nov. 22, 2005
Claim (excerpt)：

【請求項1】基板を移動させつつ基板上に形成されたレジスト層に記録信号に応じて露光ビームを照射することにより前記レジスト層に潜像を形成する記録装置であって、 前記基板に対して相対的に前記露光ビームの照射位置を移動させるビーム偏向部と、 前記露光ビームの偏向量に基づいて前記基板の移動速度を調整する基板速度調整部と、 前記記録信号の露光時における前記露光ビームの偏向速度を前記基板の移動速度に対応させて変化させる制御をなす偏向制御部と、を有することを特徴とする記録装置。

IPC (6)：

G11B 7/26 ( 200 6.01) ,  G11B 7/0045 ( 200 6.01) ,  G11B 5/84 ( 200 6.01) ,  G11B 9/10 ( 200 6.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)

FI (6)：

G11B 7/26 501 ,  G11B 7/004 Z ,  G11B 5/84 Z ,  G11B 9/10 A ,  G03F 7/20 506 ,  H01L 21/30 541 B

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

• ビーム照射方法及び装置並びに記録媒体作成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-085429   Applicant：富士通株式会社
• 光記録媒体作製用原盤の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-208357   Applicant：ソニー株式会社
• 電子ビーム露光方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-121523   Applicant：松下電器産業株式会社
• 特開昭63-055935
  
• ビーム照射方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-105153   Applicant：富士通株式会社
• 情報記録媒体用原盤作成方法、情報記録媒体用の原盤照射装置、情報記録媒体の製造方法及び情報記録媒体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-115840   Applicant：日立マクセル株式会社

Cited by examiner (6)

• ビーム照射方法及び装置並びに記録媒体作成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-085429   Applicant：富士通株式会社
• 光記録媒体作製用原盤の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-208357   Applicant：ソニー株式会社
• 電子ビーム露光方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-121523   Applicant：松下電器産業株式会社
• 特開昭63-055935
  
• ビーム照射方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-105153   Applicant：富士通株式会社
• 情報記録媒体用原盤作成方法、情報記録媒体用の原盤照射装置、情報記録媒体の製造方法及び情報記録媒体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-115840   Applicant：日立マクセル株式会社